(Fuori produzione) ST0423 Target di sputtering al seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se)

Descrizione del target di sputtering in seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se)

Il target di sputtering in seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se) è prodotto con una purezza del ≥99% e offre forme versatili, tra cui dischi o formati personalizzati. Progettato per applicazioni di alta precisione, facilita processi di deposizione di film sottili uniformi e affidabili, essenziali per la produzione di semiconduttori e display. Questo target è una scelta eccellente per le industrie che richiedono qualità costante e prestazioni efficienti nel rivestimento delle superfici e nella fabbricazione di dispositivi elettronici.

Applicazioni del target di sputtering al seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se)

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori e componenti microelettronici.
- Produzione di display: Utilizzato nella produzione di pannelli ad alta definizione e di schermi piatti.
- Fotovoltaico e optoelettronica: Ideale per la produzione di strati nelle celle solari e nelle tecnologie LED.
- Rivestimenti di superficie: Impiegati in tecniche di rivestimento avanzate per migliorare la resistenza all'usura e la conduttività.

Imballaggio del target di sputtering al seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se)

I nostri target di sputtering al seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se) sono imballati in modo sicuro per preservare le loro caratteristiche ad alte prestazioni durante il trasporto. Le soluzioni di imballaggio protettivo sono utilizzate per prevenire qualsiasi danno meccanico o ambientale, assicurando che il prodotto arrivi in condizioni ottimali per l'uso immediato.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering al seleniuro di rame e gallio (Cu/Ga/Se)?
R: È ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nella fabbricazione di pannelli di visualizzazione, nel fotovoltaico, nell'optoelettronica e nelle applicazioni avanzate di rivestimento superficiale.

D: Qual è il livello di purezza del target e perché è importante?
R: Il target ha una purezza ≥99%. L'elevata purezza è fondamentale per garantire una qualità costante del film e prestazioni affidabili nelle applicazioni di precisione.

D: Il target di sputtering può essere personalizzato?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato in base alle vostre specifiche esigenze.

D: Quali tipi di legami sono utilizzati in questo target di sputtering?
R: Il target impiega legami con l'indio e l'elastomero, che aiutano a mantenere l'integrità strutturale e facilitano prestazioni efficaci durante i processi di sputtering.

D: Come deve essere conservato e trasportato il target di sputtering rame-gallio-seleniuro (Cu/Ga/Se)?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto ed è imballato in modo sicuro con materiali protettivi per evitare potenziali danni durante il trasporto.