ST0421 Bersaglio di sputtering in ossido di stronzio (SrO)

Descrizione del target di sputtering in ossido di stronzio (SrO)

Il target di sputtering in ossido di stronzio (SrO) è un materiale di prima qualità progettato per applicazioni di precisione nei moderni processi industriali. Prodotto con tecniche di fabbricazione avanzate, garantisce un'eccellente purezza (≥99%) e una composizione uniforme, disponibile sia in forma di disco standard che in design personalizzati. Con un punto di fusione eccezionale di 2531℃ e una densità di 4,7 g/cm³, questo target è stato progettato per garantire una stabilità termica ottimale e prestazioni affidabili in ambienti di sputtering esigenti. L'inclusione dell'indio e del legame elastomerico ne migliora ulteriormente la durata e l'efficienza di deposizione, rendendolo un componente indispensabile nella produzione di dispositivi elettronici e nelle applicazioni di film sottili.

Applicazioni dei target sputtering in ossido di stronzio (SrO)

- Deposizione sputtering: Ideale per la produzione di film sottili ad alte prestazioni nei dispositivi elettronici.
- Rivestimenti a film sottile: Perfetto per rivestimenti ottici, fabbricazione di semiconduttori e strati protettivi.
- Microelettronica: Critica per i processi di deposizione di componenti di circuiti miniaturizzati.
- Ricerca e sviluppo: Adatti per studi che richiedono stabilità alle alte temperature e precisione chimica.

Imballaggio del bersaglio di sputtering in ossido di stronzio (SrO)

I nostri target sputtering all'ossido di stronzio (SrO) sono imballati seguendo rigorosi protocolli di controllo della qualità per garantire che arrivino in condizioni immacolate. L'imballaggio standard comprende materiali protettivi e antistatici e imbottiture, con possibilità di confezionamento sottovuoto o personalizzato in base alle esigenze del cliente.

Domande frequenti

D: Quali sono le caratteristiche principali del target di sputtering in ossido di stronzio (SrO)?
R: Vanta un'elevata purezza (≥99%), un'eccellente stabilità termica e un design personalizzabile, disponibile sotto forma di dischi o di forme personalizzate, che garantisce prestazioni ottimali nelle applicazioni di sputtering.

D: Quali metodi di legame sono impiegati nel target?
R: Il target utilizza legami di indio ed elastomero per mantenere una solida integrità meccanica e termica durante il processo di sputtering.

D: Il target di sputtering in ossido di stronzio (SrO) può essere personalizzato per applicazioni specifiche?
R: Sì, i target sono disponibili in forma di disco standard o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti di progettazione specifici.

D: Quali settori industriali utilizzano comunemente questo tipo di target sputtering?
R: È ampiamente utilizzato nei settori dell'elettronica, dell'ottica, della microelettronica e nei laboratori di ricerca, dove sono essenziali materiali ad alta temperatura e ad alta purezza.

D: Come vengono garantite la qualità e la purezza del target SrO?
R: Sono in atto protocolli di produzione rigorosi e misure di controllo della qualità per garantire un livello di purezza ≥99% e proprietà coerenti del materiale per prestazioni di sputtering ottimali.