ST0413 Target di sputtering al carbonio (C)

Descrizione del target di sputtering al carbonio (C)

Il target di sputtering al carbonio (C) è stato progettato per ottenere prestazioni di sputtering superiori nelle applicazioni di produzione avanzata e di semiconduttori. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target assicura una deposizione di film sottili costante e di alta qualità. Le sue forme personalizzabili, disponibili come dischi o disegni su misura, consentono agli utenti di adattare il prodotto ad applicazioni specifiche. L'elevato punto di fusione e la struttura robusta garantiscono un'eccellente stabilità termica e affidabilità in condizioni operative difficili.

Applicazioni dei target di sputtering al carbonio (C)

- Elettronica: Ideale per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori e circuiti integrati.
- Rivestimenti superficiali: Impiegato nei processi di deposizione sotto vuoto per rivestimenti a base di carbonio.
- Deposizione di film sottili: Utilizzata nella produzione di film di carbonio di alta qualità per varie applicazioni tecnologiche.
- Rivestimenti industriali: Adatti per rivestimenti protettivi nell'industria automobilistica, aerospaziale e chimica.
- Ricerca e sviluppo: Una scelta eccellente per gli studi sperimentali e la ricerca sui materiali avanzati.

Imballaggio del bersaglio di carbonio (C) sputtering

I nostri target di sputtering al carbonio (C) sono confezionati con la massima cura per mantenerne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. I target sono sigillati sottovuoto con misure protettive per garantire condizioni ottimali al momento della consegna. Le opzioni di imballaggio standard includono 5 kg per sacchetto o 25 kg per fusto, con possibilità di personalizzazione in base a requisiti specifici.

Domande frequenti

D: Cosa indica il numero CAS 7440-44-0?
R: È l'identificatore unico del carbonio elementare, che conferma l'identità chimica del materiale.

D: In che modo una purezza ≥99% influisce sulle prestazioni di sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce impurità minime, che portano a processi di sputtering e deposizione stabili e riproducibili.

D: Quali forme sono disponibili per il target di sputtering al carbonio (C)?
R: I target sono offerti come dischi standard o possono essere personalizzati per soddisfare le esigenze di applicazioni specifiche.

D: Per quali applicazioni è più adatto il target di sputtering al carbonio (C)?
R: È ideale per la produzione di elettronica, la deposizione di film sottili, i rivestimenti superficiali e vari processi industriali che richiedono materiali di carbonio ad alte prestazioni.

D: Come viene confezionato il target di sputtering al carbonio (C) per la spedizione?
R: È sigillato sottovuoto e imballato in modo sicuro, con opzioni standard di 5 kg per sacco o 25 kg per fusto per garantire l'integrità del prodotto durante il trasporto.