Fuori produzione (Fuori produzione) ST0408 Target di sputtering planare in zirconio (Zr)

Descrizione del target di sputtering in zirconio (Zr) Planar

Il target di sputtering Planar Zirconium (Zr) è stato progettato con precisione per soddisfare le moderne esigenze di deposizione di film sottili. Composto da zirconio puro al ≥99%, questo target offre un'eccellente stabilità termica e prestazioni superiori nelle applicazioni di sputtering. Il suo design planare o personalizzato garantisce versatilità, rendendolo ideale per l'uso nella fabbricazione di semiconduttori, nella produzione di componenti elettronici e in varie applicazioni di ricerca in cui la coerenza e la precisione sono fondamentali.

Applicazioni dei target sputtering in zirconio (Zr) planare

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la creazione di film sottili uniformi nella produzione di semiconduttori ed elettronica.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di rivestimenti riflettenti e antiriflesso per dispositivi ottici.
- Ingegneria delle superfici: Ideale per migliorare le proprietà della superficie nei sistemi di sputtering industriali.
- Ricerca avanzata: Utilizzato nella ricerca e sviluppo per applicazioni innovative nel campo della scienza dei materiali e delle nanotecnologie.

Imballaggio del target di sputtering in zirconio planare (Zr)

Il nostro target di sputtering in zirconio planare (Zr) è confezionato in imballaggi antistatici e resistenti all'umidità per preservarne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering allo zirconio?
R: È utilizzato principalmente nella produzione di semiconduttori, nella deposizione di film sottili, nei rivestimenti ottici e nella ricerca avanzata nella scienza dei materiali.

D: In che modo il livello di purezza influisce sulle prestazioni del target di sputtering?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce impurità minime, con conseguenti prestazioni di sputtering costanti e film sottili di alta qualità.

D: Il target di sputtering può essere personalizzato in termini di forma o dimensione?
R: Sì, i nostri target sono disponibili in una forma planare standard o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti applicativi specifici.

D: Quali sono i principali vantaggi dell'utilizzo di un target di sputtering in zirconio rispetto ad altri materiali?
R: Lo zirconio offre un'eccellente stabilità termica, resistenza alla corrosione e affidabilità, che lo rendono ideale per i processi di sputtering ad alte prestazioni.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering per mantenerne la qualità?
R: Deve essere conservato in un ambiente controllato e asciutto, utilizzando un imballaggio antistatico e resistente all'umidità, per garantire prestazioni ottimali.