(Fuori produzione) ST0404 Target di sputtering al titanio (Ti) planare

Descrizione del target di sputtering al titanio (Ti)

Il target di sputtering planare in titanio (Ti) è stato progettato per offrire prestazioni eccezionali in applicazioni industriali avanzate. Prodotto con tecniche metallurgiche all'avanguardia, questo target mantiene un elevato livello di purezza (≥99%) e offre eccellenti proprietà fisiche essenziali per lo sputtering di precisione. Il suo design planare assicura una deposizione uniforme di materiale in processi critici come la fabbricazione di semiconduttori e la produzione di film sottili. Le dimensioni personalizzabili e la struttura robusta del target lo rendono una scelta versatile per un'ampia gamma di applicazioni high-tech.

Applicazioni dei target di sputtering al titanio (Ti)

- Fabbricazione di semiconduttori: Utilizzato nella deposizione fisica di vapore (PVD) per creare film sottili uniformi per la microelettronica.
- Rivestimenti di superficie: Impiegato nella deposizione di rivestimenti protettivi e funzionali per varie applicazioni industriali.
- Pellicole ottiche: Utilizzati nella produzione di rivestimenti riflettenti e antiriflesso per dispositivi ottici.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali e la prototipazione nella ricerca sui materiali avanzati.

Imballaggio dei target di sputtering al titanio (Ti)

Il nostro target sputtering al titanio planare è confezionato con la massima cura per mantenerne l'integrità e garantire prestazioni affidabili durante il trasporto. In genere è sigillato sottovuoto per proteggerlo dalla contaminazione, con opzioni di imballaggio aggiuntive disponibili per soddisfare requisiti di spedizione specifici.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering planare al titanio (Ti)?
R: È ideale per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD) utilizzati nella produzione di semiconduttori, rivestimenti superficiali, produzione di pellicole ottiche e varie applicazioni di ricerca e sviluppo.

D: Come viene prodotto il target di sputtering al titanio planare?
R: Il target viene prodotto utilizzando processi metallurgici avanzati che garantiscono un elevato livello di purezza (≥99%) e una qualità strutturale costante, fondamentale per uno sputtering preciso.

D: Il target può essere personalizzato?
R: Sì, offriamo dimensioni e forme personalizzate per soddisfare i requisiti unici dei nostri clienti.

D: Quali standard di qualità soddisfano i vostri target in titanio?
R: I nostri prodotti sono realizzati in base a rigorose misure di controllo della qualità e rispettano gli standard industriali per i target di sputtering di elevata purezza.

D: Come deve essere conservato e maneggiato il target?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto e maneggiato con cura per mantenere l'integrità della superficie, garantendo prestazioni ottimali durante i processi di sputtering.