(Fuori produzione) ST0341 Bersaglio per sputtering di zirconato di gadolinio (Gd2Zr2O7)

Descrizione del target sputtering di zirconato di gadolinio (Gd2Zr2O7)

Il target di sputtering di zirconato di gadolinio (Gd₂Zr₂O₇) è un materiale ceramico ad alte prestazioni sviluppato appositamente per applicazioni di sputtering avanzate. La sua eccezionale composizione chimica garantisce una notevole stabilità a temperature molto elevate, rendendolo un candidato ideale per i processi di deposizione di film sottili. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target offre una qualità costante e prestazioni eccellenti. Il prodotto è disponibile in dischi standard o in target personalizzati per soddisfare le diverse esigenze delle applicazioni industriali.

Applicazioni dei target sputtering di zirconato di gadolinio (Gd2Zr2O7)

- Deposizione di film sottili: Ottimale per la produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici e processi di sputtering per la ricerca.
- Rivestimenti ad alta temperatura: Fornisce una protezione robusta in ambienti termici estremi.
- Ingegneria ceramica: Serve in applicazioni che richiedono materiali con punti di fusione elevati e proprietà strutturalmente stabili.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per studi sperimentali e innovazione nella scienza dei materiali avanzati.

Imballaggio del bersaglio sputtering in zirconato di gadolinio (Gd2Zr2O7)

I nostri target sputtering di zirconato di gadolinio sono imballati con cura per garantirne le condizioni incontaminate durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare i requisiti specifici di gestione e spedizione dei nostri clienti.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target sputtering di zirconato di gadolinio?
R: È ampiamente utilizzato nella deposizione di film sottili per dispositivi a semiconduttore, rivestimenti ottici, strati protettivi ad alta temperatura e varie applicazioni di ricerca.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) del target sputtering?
R: Il nostro processo di produzione è caratterizzato da un rigoroso controllo della qualità e da tecniche avanzate di sintesi della ceramica, per garantire un'elevata purezza e prestazioni costanti.

D: Posso richiedere una forma o una dimensione personalizzata per il target di sputtering?
R: Sì, oltre alla forma standard a disco, offriamo target personalizzati per soddisfare perfettamente le specifiche esigenze industriali.

D: Per quali processi di sputtering è adatto questo target?
R: Sebbene sia stato progettato per applicazioni di sputtering avanzate, il target funziona meglio se utilizzato con le tecniche di deposizione specificate dalle linee guida del sistema di sputtering.

D: Cosa si deve considerare durante la conservazione e la manipolazione di questi target?
R: Si raccomanda di conservare i target in un ambiente pulito e asciutto e di maneggiarli con cura per preservarne l'integrità strutturale e le caratteristiche ad alte prestazioni.