ST0340 Bersaglio di sputtering in ossido di bario e cerio (BaCeO₃)

Descrizione del target di sputtering all'ossido di bario e cerio (BaCeO₃)

Il target di sputtering in ossido di bario e cerio (BaCeO₃) è progettato utilizzando tecniche di lavorazione avanzate per offrire prestazioni affidabili nelle applicazioni di deposizione e rivestimento di film sottili. La sua elevata purezza (≥99%) e le forme personalizzabili, disponibili come dischi standard o progetti su misura, lo rendono una scelta perfetta per le industrie che richiedono precisione e durata. Le robuste proprietà del materiale garantiscono il mantenimento dell'integrità in condizioni di alta temperatura, rendendolo particolarmente adatto per applicazioni sofisticate nel campo dell'elettronica e dell'energia.

Applicazioni dei target sputtering in ossido di bario e cerio (BaCeO₃)

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la produzione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Tecnologie di rivestimento: Ideale per i processi di sputtering termico e al plasma nei sistemi di rivestimento avanzati.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato frequentemente nelle configurazioni sperimentali per studi di scienza dei materiali e ingegneria.
- Applicazioni energetiche: Adatto per l'uso in celle a combustibile ad alte prestazioni e componenti ceramici.

Imballaggio del target di sputtering in ossido di bario e cerio (BaCeO₃)

Il nostro target sputtering di ossido di bario e cerio è accuratamente confezionato in condizioni di sottovuoto per mantenerne la qualità e la purezza durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni di imballaggio standard sono disponibili in 5 kg per sacchetto o 25 kg per fusto, con imballaggi personalizzati disponibili su richiesta.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering all'ossido di cerio e bario?
R: È ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nei processi di rivestimento avanzati, negli esperimenti di ricerca e nelle applicazioni energetiche.

D: Sono disponibili dimensioni o forme personalizzate per questo target sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile in forma di disco standard e in forme personalizzate in base alle specifiche del cliente.

D: Come viene mantenuto l'elevato livello di purezza (≥99%) durante la produzione?
R: Il processo di produzione impiega rigorose misure di controllo della qualità e tecniche di lavorazione avanzate per garantire che il materiale soddisfi o superi costantemente la purezza specificata.

D: Quali sono i settori che traggono vantaggio dall'utilizzo di questo target di sputtering?
R: Industrie come l'elettronica dei semiconduttori, l'energia e la ricerca sui materiali avanzati si affidano a questo prodotto per le sue prestazioni superiori nelle applicazioni di deposizione di film e rivestimento.

D: Come deve essere conservato e maneggiato il target di sputtering all'ossido di cerio e bario?
R: Si consiglia di conservare il target sputtering in un ambiente asciutto e pulito per evitare la contaminazione, preservandone così la qualità e l'efficacia nel tempo.