ST0336 Target di sputtering in zirconato di calcio (CaZrO3)

Descrizione del target di sputtering in zirconato di calcio (CaZrO3)

Il target di sputtering di zirconato di calcio (CaZrO3) è stato progettato per garantire prestazioni ad alta affidabilità nelle tecnologie di deposizione di film sottili. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target offre consistenza e durata essenziali per la produzione di semiconduttori e rivestimenti industriali. L'elevato punto di fusione di 2345℃ e la robusta densità di 5 g/cm³ garantiscono un funzionamento stabile anche in ambienti difficili e ad alta temperatura.

Applicazioni del target sputtering di zirconato di calcio (CaZrO3)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film di alta qualità nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Rivestimenti superficiali: Fornisce rivestimenti durevoli per migliorare le prestazioni nelle applicazioni industriali.
- Elettronica avanzata: Utilizzata nella produzione di dispositivi microelettronici e nella ricerca.
- Strumenti industriali: Migliora la resistenza all'usura e la longevità dei componenti rivestiti.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per processi di rivestimento sperimentali e innovativi.

Imballaggio dei target di sputtering in zirconato di calcio (CaZrO3)

I nostri target sputtering di zirconato di calcio sono imballati con cura per garantire la massima protezione durante il trasporto e lo stoccaggio. In genere sono imballati in materiali resistenti all'umidità e privi di cariche elettrostatiche, con opzioni di imballaggio personalizzabili per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

Domande frequenti

D: Qual è l'applicazione principale dei target sputtering di zirconato di calcio?
R: Sono utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori e nei processi di rivestimento superficiale.

D: In che modo l'elevato punto di fusione favorisce le prestazioni del target di sputtering?
R: L'elevato punto di fusione di 2345℃ garantisce stabilità e prestazioni affidabili durante i processi di deposizione ad alta temperatura, riducendo il rischio di degradazione termica.

D: Quali industrie utilizzano comunemente i target sputtering di zirconato di calcio?
R: Questi target sono ampiamente utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori, nella produzione di dispositivi elettronici, nei rivestimenti industriali e nelle applicazioni di ricerca.

D: Le forme e le dimensioni dei target di sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, i bersagli sputtering di zirconato di calcio sono disponibili in dischi o configurazioni personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: In che modo una purezza ≥99% influenza l'efficacia del bersaglio di sputtering?
R: Un livello di purezza elevato riduce al minimo la contaminazione, assicurando la deposizione di film sottili coerenti e di alta qualità, che è fondamentale per le applicazioni elettroniche e di rivestimento avanzate.