ST0335 Target di sputtering in tellururo di zinco (ZnTe)

Descrizione del target di sputtering in tellururo di zinco (ZnTe)

Il target di sputtering al tellururo di zinco (ZnTe) è progettato per applicazioni ad alte prestazioni nei processi di deposizione di semiconduttori e film sottili. Prodotto sotto un rigoroso controllo di qualità con tecniche di fabbricazione avanzate, questo target offre un'eccezionale purezza (≥99%) per tassi di deposizione costanti e un'uniformità superiore del film. La sua forma a disco personalizzabile e le sue robuste proprietà fisiche lo rendono una scelta ideale per l'optoelettronica, i sensori e altri settori high-tech che richiedono la deposizione di materiali di precisione.

Applicazioni dei target di sputtering in tellururo di zinco (ZnTe)

- Deposizione di film sottili: Perfetto per creare strati di semiconduttori di alta qualità.
- Dispositivi optoelettronici: Essenziale per la produzione di LED, diodi laser e fotorivelatori.
- Fabbricazione di sensori: Migliora le prestazioni dei dispositivi che rilevano i cambiamenti ambientali.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali nella ricerca sui materiali avanzati.
- Applicazioni industriali personalizzate: Adattabili a requisiti specifici del sistema di sputtering.

Imballaggio del target di sputtering in tellururo di zinco (ZnTe)

Ogni target di sputtering al tellururo di zinco (ZnTe) è confezionato in modo sicuro per mantenerne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, assicurando che il target rimanga privo di contaminazione e di impatto ambientale finché non raggiunge la vostra struttura.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering al tellururo di zinco (ZnTe)?
R: È ideale per la deposizione di film sottili di semiconduttori, la fabbricazione di dispositivi optoelettronici, la produzione di sensori e varie applicazioni di ricerca e sviluppo.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) è vantaggiosa per il processo di sputtering?
R: L'elevata purezza riduce al minimo la contaminazione, garantendo tassi di deposizione costanti e una qualità superiore del film con un'uniformità ottimale tra i substrati.

D: Ci sono opzioni per forme e dimensioni personalizzate per questo target di sputtering?
R: Sì, anche se la forma standard è un disco, questo prodotto può essere personalizzato per soddisfare i requisiti specifici del sistema.

D: Quali industrie utilizzano comunemente i target di sputtering al tellururo di zinco?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, l'optoelettronica, la tecnologia dei sensori e la ricerca avanzata utilizzano questi target per la loro precisione e affidabilità.

D: Come viene confezionato il prodotto per garantire una qualità ottimale durante il trasporto?
R: Il target viene imballato con cura, spesso con un imballaggio protettivo sigillato sottovuoto o appositamente progettato, per evitare la contaminazione e garantire che arrivi in condizioni immacolate.