(Fuori produzione) ST0321 Target di sputtering in tellururo di gallio (Ga2Te3)

Descrizione del target di sputtering al tellururo di gallio (Ga2Te3)

Il target di sputtering in tellururo di gallio (Ga2Te3) fornito da Stanford Advanced Materials è progettato per garantire prestazioni eccezionali nelle applicazioni di sputtering e deposizione di film sottili. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target offre prestazioni affidabili e costanti, mantenendo l'integrità strutturale alle alte temperature. Le sue forme personalizzabili, tra cui dischi e forme speciali personalizzate, consentono un'integrazione versatile in vari sistemi di deposizione. Progettato con precisione, soddisfa i rigorosi standard di qualità richiesti dall'industria dei semiconduttori e dei materiali avanzati.

Applicazioni dei target di sputtering al tellururo di gallio (Ga2Te3)

- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per la deposizione di film sottili di alta qualità nella produzione di elettronica.
- Rivestimenti superficiali: Utilizzato nei processi di sputtering per depositare rivestimenti uniformi su una varietà di substrati.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per la ricerca avanzata nella scienza dei materiali e nelle nanotecnologie.
- Applicazioni industriali personalizzate: Perfetto per bersagli personalizzati in sistemi di sputtering specializzati.

Imballaggio dei target di sputtering al tellururo di gallio (Ga2Te3)

I nostri target di sputtering al tellururo di gallio sono imballati con la massima cura per garantire che arrivino in condizioni immacolate. Le soluzioni di imballaggio sono personalizzate per soddisfare i requisiti specifici di ciascun target, fornendo un involucro sicuro e protettivo per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.

Domande frequenti

D: Qual è il livello di purezza del target di sputtering al tellururo di gallio?
R: Il livello di purezza è mantenuto a ≥99% per garantire prestazioni elevate e affidabilità.

D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di progettazione specifici.

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering al tellururo di gallio (Ga2Te3)?
R: È ideale per la fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti superficiali a film sottile e ricerca sui materiali avanzati.

D: In che modo il punto di fusione influenza le prestazioni del target di sputtering?
R: Un punto di fusione di 825℃ assicura che il target rimanga stabile ed efficace in condizioni di sputtering ad alta temperatura.

D: Quali misure vengono adottate per garantire la qualità del prodotto durante il confezionamento?
R: I target sono confezionati in soluzioni personalizzate e sicure, progettate per proteggere il prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto, preservandone l'alta qualità.