(Fuori produzione) ST0307 Target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

Descrizione del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

Il target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3) è stato progettato per offrire prestazioni eccezionali nelle applicazioni di sputtering ad alta tecnologia. Con una purezza ≥99% e una composizione controllata con precisione, questo target assicura una deposizione uniforme e affidabile nei processi di produzione di film sottili e semiconduttori. Le sue forme personalizzabili, disponibili come dischi standard o su ordinazione, soddisfano i requisiti di applicazioni specifiche, mantenendo la stabilità in condizioni di alta temperatura.

Applicazioni del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

- Elettronica: Ideale per la produzione di dispositivi semiconduttori e circuiti a film sottile.
- Deposizione di film sottili: Fornisce una distribuzione uniforme del materiale per celle solari e dispositivi optoelettronici.
- Produzione di sensori: Adatto alla produzione di sensori e fotorivelatori ad alta sensibilità.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato per studi avanzati sui materiali e per lo sviluppo di prototipi in laboratori all'avanguardia.

Imballaggio del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

I nostri target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3) sono imballati in modo sicuro per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e la spedizione. Ogni unità è imballata in una confezione antistatica e resistente all'umidità. Su richiesta, sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti specifici di trasporto e movimentazione.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione e la purezza del target di sputtering?
R: Il target è composto da Ga₂Se₃ con una purezza del ≥99%.

D: In quali forme può essere prodotto il target di sputtering?
R: È disponibile in forma di disco standard o può essere realizzato su misura in base alle vostre specifiche esigenze.

D: Il target è compatibile con tutti i sistemi di sputtering?
R: Sì, è stato progettato per ottenere prestazioni ottimali in vari sistemi di sputtering; tuttavia, si consiglia di verificare la compatibilità del sistema per applicazioni specializzate.

D: Il target può sopportare processi ad alta temperatura?
R: Assolutamente sì. Con un punto di fusione di ~ 960℃, è adatto ai processi di sputtering e deposizione ad alta temperatura.

D: Come posso ordinare un target di dimensioni personalizzate?
R: Contattate il nostro team di vendita con le vostre specifiche e saremo lieti di assistervi con una soluzione su misura.