Fuori produzione (Fuori produzione) ST0307 Target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

Descrizione del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

Il target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3) è stato progettato per offrire prestazioni eccezionali nelle applicazioni di sputtering ad alta tecnologia. Con una purezza ≥99% e una composizione controllata con precisione, questo target assicura una deposizione uniforme e affidabile nei processi di produzione di film sottili e semiconduttori. Le sue forme personalizzabili, disponibili come dischi standard o su ordinazione, soddisfano i requisiti di applicazioni specifiche, mantenendo la stabilità in condizioni di alta temperatura.

Applicazioni del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

- Elettronica: Ideale per la produzione di dispositivi semiconduttori e circuiti a film sottile.
- Deposizione di film sottili: Fornisce una distribuzione uniforme del materiale per celle solari e dispositivi optoelettronici.
- Produzione di sensori: Adatto alla produzione di sensori e fotorivelatori ad alta sensibilità.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato per studi avanzati sui materiali e per lo sviluppo di prototipi in laboratori all'avanguardia.

Imballaggio del target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3)

I nostri target di sputtering al seleniuro di gallio (Ga2Se3) sono imballati in modo sicuro per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e la spedizione. Ogni unità è imballata in una confezione antistatica e resistente all'umidità. Su richiesta, sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti specifici di trasporto e movimentazione.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione e la purezza del target di sputtering?
R: Il target è composto da Ga₂Se₃ con una purezza del ≥99%.

D: In quali forme può essere prodotto il target di sputtering?
R: È disponibile in forma di disco standard o può essere realizzato su misura in base alle vostre specifiche esigenze.

D: Il target è compatibile con tutti i sistemi di sputtering?
R: Sì, è stato progettato per ottenere prestazioni ottimali in vari sistemi di sputtering; tuttavia, si consiglia di verificare la compatibilità del sistema per applicazioni specializzate.

D: Il target può sopportare processi ad alta temperatura?
R: Assolutamente sì. Con un punto di fusione di ~ 960℃, è adatto ai processi di sputtering e deposizione ad alta temperatura.

D: Come posso ordinare un target di dimensioni personalizzate?
R: Contattate il nostro team di vendita con le vostre specifiche e saremo lieti di assistervi con una soluzione su misura.