ST0306 Target di sputtering al seleniuro di rame (CuSe)

Descrizione del target di sputtering in seleniuro di rame (CuSe)

Il target di sputtering al seleniuro di rame (CuSe) è progettato con una purezza eccezionale (≥99%) per la deposizione di film sottili di precisione. Prodotto in forma di disco o come target personalizzato, questo materiale è progettato per offrire una composizione stabile e prestazioni riproducibili nelle applicazioni industriali più esigenti. Le sue proprietà affidabili lo rendono ideale per i processi di semiconduttori, la fabbricazione di dispositivi optoelettronici e altre tecnologie avanzate in cui la deposizione controllata di materiale è fondamentale.

Applicazioni dei target di sputtering al seleniuro di rame (CuSe)

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori e circuiti integrati.
- Optoelettronica: Utilizzato nella produzione di fotorivelatori, celle solari e dispositivi che emettono luce.
- Rivestimento di superficie: Fornisce un rivestimento uniforme e controllato in applicazioni industriali di alta precisione.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali nei laboratori di scienza dei materiali e nanotecnologia.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al seleniuro di rame (CuSe)

I nostri target di sputtering al seleniuro di rame (CuSe) sono imballati con cura per mantenerne le condizioni incontaminate durante lo stoccaggio e il trasporto. In genere, i prodotti sono sigillati sottovuoto in imballaggi protettivi, con opzioni di peso e dimensioni dei contenitori personalizzabili in base alle esigenze del cliente.

Domande frequenti

D: Quali sono i settori industriali che traggono maggiore vantaggio dall'utilizzo del target di sputtering al seleniuro di rame?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nell'optoelettronica e nelle applicazioni di rivestimento superficiale, il che lo rende prezioso in ambienti industriali e di ricerca ad alta tecnologia.

D: In che modo il livello di purezza del target CuSe influisce sulle sue prestazioni?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce una deposizione di film sottile di alta qualità con impurità minime, che porta a risultati più affidabili e riproducibili nella fabbricazione dei dispositivi.

D: È possibile personalizzare la forma e le dimensioni del target?
R: Sì, i nostri target di sputtering al seleniuro di rame sono disponibili in forme standard a disco o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti applicativi specifici.

D: Quali sono le caratteristiche principali da considerare nella scelta di un target di sputtering?
R: Le caratteristiche principali includono la composizione, la purezza, il punto di fusione, la densità e le dimensioni fisiche del target, che influenzano la qualità della deposizione e la stabilità del processo.

D: Quali misure vengono adottate per garantire la stabilità del materiale durante lo stoccaggio e il trasporto?
R: I target sono sigillati sottovuoto e imballati con cura per proteggerli dall'ossidazione e dai danni fisici, garantendo il mantenimento delle loro elevate prestazioni fino al momento dell'utilizzo.