ST0302 Target di sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3)

Descrizione del target di sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3)

Il target di sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3) è progettato per garantire la precisione nelle applicazioni di sputtering avanzate. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target assicura una deposizione uniforme e prestazioni affidabili nei sistemi di sputtering RF. Il design del target, disponibile sia in forma di disco standard che di forma personalizzabile, lo rende adatto a varie applicazioni industriali, tra cui la produzione di semiconduttori, la termoelettrica e la ricerca sui materiali quantistici. Con un punto di fusione di 710℃ e una densità di 6,82 g/cm³, il target garantisce prestazioni e durata costanti anche in condizioni di lavorazione difficili.

Applicazioni del target sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3)

- Deposizione di film sottili: Ideale per creare rivestimenti uniformi e di alta qualità in dispositivi semiconduttori e optoelettronici.
- Dispositivi termoelettrici: Utilizzati per la fabbricazione di dispositivi che convertono le differenze di temperatura in energia elettrica.
- Ricerca sui materiali quantistici: Supporta le applicazioni sperimentali nella scienza dei materiali avanzata e nelle nanotecnologie.
- Ingegneria delle superfici: Fornisce una deposizione precisa per rivestimenti funzionali e strati protettivi in vari strumenti industriali.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3)

I nostri target sputtering al seleniuro di bismuto sono imballati con la massima cura per preservarne la qualità. Sono fissati in soluzioni di imballaggio antistatiche e resistenti all'umidità e di solito vengono spediti in contenitori sigillati sotto vuoto. Le configurazioni di imballaggio possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering al seleniuro di bismuto (Bi2Se3)?
R: Viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nei dispositivi termoelettrici, nella ricerca sui materiali quantistici e nell'ingegneria delle superfici.

D: Quale metodo di sputtering è consigliato per questo target?
R: Per ottenere prestazioni ottimali con questo target, si consiglia lo sputtering RF.

D: Qual è il livello di purezza di questo target di sputtering?
R: Il target è prodotto con una purezza ≥99%, che garantisce un'elevata coerenza nei processi di deposizione.

D: È possibile personalizzare la forma e le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, il target è disponibile in forma di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici.

D: In che modo i legami con l'indio e l'elastomero favoriscono il processo di sputtering?
R: Questi legami migliorano la stabilità termica e meccanica durante lo sputtering, garantendo un'efficiente dissipazione del calore e prestazioni costanti durante il processo.