ST0290 Target di sputtering al boruro di alluminio (AlB2)

Descrizione del target di sputtering in boruro di alluminio (AlB2)

Il target di sputtering al boruro di alluminio (AlB2) è progettato per applicazioni ad alte prestazioni nella deposizione di film sottili. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target offre una consistenza e un'affidabilità eccezionali in vari processi high-tech, tra cui la produzione di semiconduttori e le applicazioni di rivestimento superficiale. Progettato per soddisfare rigorosi standard di qualità, garantisce tassi di deposizione e uniformità del film ottimali per gli ambienti di ricerca e ingegneria di precisione.

Applicazioni del target di sputtering al boruro di alluminio (AlB2)

- Fabbricazione di semiconduttori: Fondamentale per depositare film sottili nei dispositivi microelettronici.
- Rivestimenti superficiali: Utilizzati nei processi di sputtering per creare strati protettivi e funzionali.
- Optoelettronica: Ideale per la produzione di componenti nelle tecnologie avanzate di visualizzazione e illuminazione.
- Ricerca e sviluppo: Impiegati in configurazioni sperimentali che richiedono target di sputtering di elevata purezza.

Imballaggio dei target di sputtering in boruro di alluminio (AlB2)

I nostri target di sputtering al boruro di alluminio sono trattati con la massima cura per mantenere la massima qualità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili in formati di dischi personalizzati, che garantiscono l'integrità e le prestazioni del target fino all'applicazione.

Domande frequenti

D: Qual è l'uso principale di un target sputtering?
R: I target sputtering sono impiegati nei processi di deposizione di film sottili, essenziali per la fabbricazione di rivestimenti elettronici, ottici e protettivi.

D: Perché è importante un'elevata purezza (≥99%) per i target di sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce la formazione di film omogenei e riduce il rischio di difetti, fattore critico per ottenere prestazioni ottimali nelle applicazioni high-tech.

D: È possibile personalizzare la forma e le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, i nostri target di sputtering al boruro di alluminio possono essere realizzati su misura in varie forme, come i dischi, per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi da questo target di sputtering?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, l'optoelettronica, il rivestimento delle superfici e la ricerca sui materiali avanzati traggono ampio vantaggio dall'uso di questi target.

D: Come viene mantenuta la qualità del target di sputtering durante la spedizione?
R: I nostri prodotti sono imballati con cura in formati progettati su misura che garantiscono l'integrità del target durante lo stoccaggio e il trasporto.