ST0279 Target di solfuro di indio (In2S3) per sputtering

Descrizione del target di sputtering al solfuro di indio (In2S3)

Il target di solfuro di indio (In2S₃) è progettato per applicazioni di alta precisione nella deposizione di film sottili e nella produzione elettronica avanzata. Utilizzando materiali di prima qualità e processi di fabbricazione all'avanguardia, questo target garantisce prestazioni costanti, elevata uniformità del film ed eccezionale affidabilità in vari metodi di sputtering, tra cui RF, RF-R e DC. L'elevato punto di fusione e la densità ottimizzata lo rendono adatto agli ambienti industriali più esigenti, mentre le dimensioni personalizzabili soddisfano le diverse esigenze applicative.

Applicazioni dei target di sputtering al solfuro di indio (In2S3)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la creazione di film di alta qualità nei dispositivi elettronici e fotovoltaici.
- Produzione di semiconduttori: Offre una deposizione precisa di materiale per la fabbricazione di dispositivi all'avanguardia.
- Celle fotovoltaiche: Fornisce una deposizione uniforme, fondamentale per le prestazioni efficienti delle celle solari.
- Ricerca scientifica: Serve come materiale affidabile per le configurazioni sperimentali nella ricerca sui materiali avanzati.

Imballaggio del target di sputtering in solfuro di indio (In2S3)

I nostri target sputtering In2S₃ sono confezionati con la massima cura per preservarne la purezza e l'integrità delle prestazioni. In genere, i target sono sigillati sotto vuoto e imballati in modo sicuro per prevenire la contaminazione e i danni meccanici durante il trasporto.

Domande frequenti

D: Quali metodi di sputtering sono compatibili con il target di sputtering al solfuro di indio (In2S₃)?
R: Il target supporta i metodi di sputtering RF, RF-R e DC, rendendolo versatile per una vasta gamma di applicazioni.

D: Come fate a mantenere un livello di purezza elevato (≥99%) nel target di sputtering?
R: I nostri rigorosi processi di controllo della qualità e le tecniche di fabbricazione avanzate garantiscono che ogni lotto raggiunga e mantenga l'elevato standard di purezza.

D: I target di sputtering possono essere prodotti in dimensioni personalizzate?
R: Sì, oltre alle forme standard dei dischi, siamo lieti di fornire dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti specifici del vostro progetto.

D: Quali sono le principali applicazioni del target di sputtering al solfuro di indio (In2S₃)?
R: È utilizzato prevalentemente nella deposizione di film sottili, nella produzione di semiconduttori, nella produzione di celle fotovoltaiche e nella ricerca sui materiali avanzati.

D: In che modo l'elevato punto di fusione contribuisce alle prestazioni del target durante lo sputtering?
R: L'elevato punto di fusione (1010℃) assicura un'eccellente stabilità termica, consentendo al target di funzionare in modo affidabile anche in condizioni di sputtering ad alta temperatura.