ST0278 Target di sputtering al solfuro di germanio (GeS)

Descrizione del target di sputtering al solfuro di germanio (GeS)

Il target di sputtering al solfuro di germanio (GeS) è prodotto con GeS di elevata purezza (≥99%) e ingegneria di precisione per soddisfare le rigorose esigenze dei moderni processi di deposizione di film sottili. Progettato per le industrie dei semiconduttori e dell'elettronica, questo target di sputtering offre prestazioni costanti con un punto di fusione di 940℃ e una densità di 4,08 g/cm³. Le sue forme personalizzabili, disponibili come dischi o progetti su misura, garantiscono la compatibilità con un'ampia gamma di sistemi di deposizione. Questo prodotto è ideale per le applicazioni che richiedono una produzione affidabile e uniforme di film in condizioni di alta temperatura.

Applicazioni del target di sputtering al solfuro di germanio (GeS)

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per la produzione di circuiti integrati e componenti elettronici con caratteristiche precise del film sottile.
- Dispositivi fotovoltaici: Utilizzato nel processo di deposizione per produrre celle solari ad alta efficienza.
- Deposizione di film sottili: Fornisce un'eccellente uniformità nei rivestimenti per sensori, dispositivi optoelettronici e strati protettivi.
- Ingegneria delle superfici: Consente modifiche avanzate della superficie per migliorare la resistenza all'usura e i rivestimenti funzionali.
- Ricerca e sviluppo: Supporta la produzione sperimentale e pilota nei laboratori di scienza dei materiali.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al solfuro di germanio (GeS)

I nostri target sputtering al solfuro di germanio (GeS) sono imballati con cura per garantire la loro integrità durante il trasporto e lo stoccaggio.
- Imballaggio standard: Dischi sigillati sotto vuoto o confezioni personalizzate in base alle esigenze del cliente.
- Disponibili in: Dimensioni personalizzate in base alle specifiche del cliente per garantire una compatibilità ottimale con le apparecchiature di deposizione.

Domande frequenti

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target di sputtering al solfuro di germanio?
R: Sono utilizzati principalmente nella produzione di semiconduttori, nella produzione di dispositivi fotovoltaici e in applicazioni avanzate di deposizione di film sottili nell'elettronica e nell'ingegneria delle superfici.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) del GeS influisce sulle sue prestazioni?
R: L'elevata purezza assicura una deposizione uniforme del film, riduce al minimo la contaminazione durante la lavorazione e contribuisce a migliorare le prestazioni del materiale in applicazioni critiche.

D: Posso richiedere una forma personalizzata per il target di sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile in dischi o può essere personalizzato per adattarsi a specifici requisiti del sistema di deposizione.

D: Quali sono i fattori da considerare quando si integra il target di sputtering GeS in un sistema di deposizione?
R: Le considerazioni principali includono il punto di fusione del target, la densità e la compatibilità della forma del target con il design dell'apparecchiatura di deposizione.

D: Ci sono requisiti speciali per la manipolazione o lo stoccaggio del target di sputtering GeS?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente pulito, asciutto e a temperatura controllata. L'imballaggio sigillato sottovuoto aiuta a mantenere la sua elevata purezza e previene la contaminazione.