ST0275 Bersaglio di solfuro di calcio (CaS) per sputtering

Descrizione del target di sputtering in solfuro di calcio (CaS)

Il target di sputtering al solfuro di calcio (CaS) è prodotto secondo rigorosi standard di qualità con una composizione di CaS puro (≥99%). Progettato per una deposizione sputtering precisa ed efficiente, questo target garantisce coerenza e stabilità in ambienti di lavorazione ad alta temperatura. Le sue proprietà robuste e le forme personalizzabili lo rendono ideale per applicazioni che vanno dalla fabbricazione di dispositivi elettronici ai rivestimenti ottici e alla ricerca nella scienza dei materiali avanzati.

Applicazioni del target di sputtering al solfuro di calcio (CaS)

- Deposizione di film sottili: Impiegato nella produzione di film sottili di alta qualità per semiconduttori e dispositivi optoelettronici.
- Produzione di dispositivi elettronici: Utilizzato nei processi di sputtering per creare strati uniformi nei circuiti integrati e nei sensori.
- Rivestimenti ottici: Fornisce un materiale affidabile per le tecniche di deposizione utilizzate nella produzione di specchi, lenti e altri componenti ottici.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per i laboratori e i progetti di ricerca e sviluppo industriale che si concentrano su applicazioni e rivestimenti di materiali innovativi.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al solfuro di calcio (CaS)

Il target di sputtering al solfuro di calcio (CaS) è confezionato in modo sicuro per mantenerne la purezza e le prestazioni. I metodi di imballaggio protettivo includono contenitori sigillati sottovuoto e soluzioni di imballaggio personalizzate in base alle esigenze del cliente. Gli imballaggi standard sono disponibili in dimensioni che possono essere personalizzate in base alle esigenze di applicazione e di quantità.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un target di sputtering è un materiale solido utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore (PVD) per depositare film sottili su substrati attraverso un meccanismo di sputtering.

D: Quali sono le applicazioni che traggono maggiore vantaggio dall'utilizzo di un target sputtering CaS?
R: Le applicazioni nel campo dell'elettronica, dei rivestimenti ottici e della ricerca avanzata traggono particolare vantaggio dall'elevata purezza e dalle prestazioni stabili dei target sputtering CaS.

D: Sono disponibili forme personalizzate per questo target?
R: Sì, il target di sputtering al solfuro di calcio (CaS) è disponibile in forma di dischi o su misura per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

D: In che modo l'elevato punto di fusione del CaS influisce sulle sue prestazioni nei processi di sputtering?
R: L'elevato punto di fusione di 2525℃ garantisce che il target mantenga l'integrità strutturale e le prestazioni durante i processi di sputtering ad alta temperatura.

D: Quali misure vengono adottate per garantire la purezza e la coerenza del target di sputtering CaS?
R: Il target è prodotto in base a rigorose misure di controllo della qualità, che assicurano una purezza del ≥99%, che garantisce prestazioni costanti e affidabilità nelle applicazioni più complesse.