ST0272 Bersaglio di solfuro di bario (BaS) per sputtering

Descrizione del target di sputtering in solfuro di bario (BaS)

Il target di sputtering in solfuro di bario (BaS) è un materiale di qualità superiore progettato per processi precisi di deposizione di film sottili. Con una purezza ≥99% e forme personalizzabili, questo target sputtering offre prestazioni affidabili per applicazioni di produzione avanzate. L'elevato punto di fusione e la densità controllata garantiscono la stabilità in condizioni di alta energia, rendendolo ideale per le moderne applicazioni di semiconduttori e rivestimenti ottici.

Applicazioni del target di sputtering al solfuro di bario (BaS)

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per depositare film sottili nei circuiti integrati e nei componenti elettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato nella produzione di filtri ottici e rivestimenti riflettenti di alta qualità.
- Rivestimenti avanzati: Adatti a creare strati durevoli e resistenti alla corrosione su vari substrati.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per la deposizione sperimentale di film sottili e per la ricerca nel campo della scienza dei materiali.

Imballaggio del target di sputtering al solfuro di bario (BaS)

Il nostro target di sputtering al solfuro di bario (BaS) è imballato con cura per proteggerlo dai fattori ambientali e dai danni meccanici durante il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Contattateci per ulteriori dettagli sulle specifiche di imballaggio e sui metodi di spedizione.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un target di sputtering è un materiale di elevata purezza utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore per creare film sottili e rivestimenti su vari substrati.

D: In che modo la purezza del target influisce sulla deposizione di film sottili?
R: Una maggiore purezza contribuisce a garantire una composizione uniforme del film, una migliore adesione e prestazioni più elevate dello strato depositato.

D: Il target di solfuro di bario per sputtering può essere personalizzato?
R: Sì, il target è disponibile in forme e dimensioni personalizzate per soddisfare requisiti di produzione specifici.

D: Quali industrie utilizzano comunemente i target di sputtering BaS?
R: I target di sputtering BaS sono utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella produzione di rivestimenti ottici e nella ricerca sui materiali avanzati.

D: Come deve essere conservato il target sputtering per mantenere la qualità?
R: Deve essere conservato in un ambiente controllato con un imballaggio adeguato per prevenire la contaminazione e i danni meccanici durante il trasporto e la manipolazione.