ST0271 Target di sputtering in solfuro di antimonio (Sb2S3)

Descrizione del target di sputtering in solfuro di antimonio (Sb2S3)

Il target di sputtering al solfuro di antimonio (Sb2S3) è stato sviluppato per applicazioni di sputtering ad alte prestazioni. Prodotto con Sb₂S₃ di elevata purezza, questo target garantisce prestazioni costanti nella deposizione di film sottili in una gamma di applicazioni industriali e di ricerca. Le sue robuste proprietà fisiche e le dimensioni personalizzabili lo rendono una scelta eccellente per i processi di fabbricazione di semiconduttori e optoelettronici avanzati.

Applicazioni del target di sputtering al solfuro di antimonio (Sb2S3)

- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per la produzione di film sottili utilizzati nei dispositivi elettronici e optoelettronici.
- Celle fotovoltaiche: Utilizzato nella produzione di celle solari per un efficiente assorbimento e conversione della luce.
- Rivestimenti ottici: Applicato nella deposizione di rivestimenti che migliorano le proprietà ottiche e la durata.
- Ricerca e sviluppo: Serve come materiale affidabile per le configurazioni sperimentali nei laboratori di scienze dei materiali.
- Trattamenti superficiali: Impiegati nei processi di modifica della superficie per migliorare le caratteristiche elettriche e fisiche.

Imballaggio del target di sputtering in solfuro di antimonio (Sb2S3)

Il nostro target di sputtering al solfuro di antimonio (Sb2S3) è confezionato con la massima cura per mantenerne l'integrità e la purezza durante il trasporto e lo stoccaggio. Le opzioni di imballaggio sono disponibili in base alle esigenze del cliente, garantendo che il prodotto rimanga in condizioni ottimali fino al momento dell'utilizzo.

Domande frequenti

Q1: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering al solfuro di antimonio (Sb2S3)?
A1: È ideale per la fabbricazione di semiconduttori, la deposizione di film sottili, i rivestimenti ottici, la produzione di celle fotovoltaiche e vari progetti di ricerca e sviluppo.

D2: Quali metodi di sputtering possono essere utilizzati con questo target?
A2: Il target è compatibile con i metodi di sputtering RF, RF-R e DC, offrendo flessibilità per vari sistemi di deposizione.

D3: Come si ottengono dimensioni personalizzate per questo target di sputtering?
A3: Offriamo forme e dimensioni personalizzate in base alle vostre esigenze applicative. Contattate il nostro team tecnico per discutere i requisiti specifici.

Q4: Quali misure garantiscono l'elevata purezza del target (≥99%)?
A4: Il nostro processo di produzione prevede un rigoroso controllo di qualità e materie prime di elevata purezza per garantire che ogni target soddisfi o superi lo standard di purezza ≥99%.

D5: Come deve essere conservato il target di sputtering per mantenerne la qualità?
A5: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente pulito e asciutto, preferibilmente nella confezione originale o in condizioni controllate per evitare la contaminazione e la degradazione.