(Fuori produzione) ST0270 Bersaglio di sputtering in siliciuro di zirconio (ZrSi2)

Descrizione del target di sputtering in zirconio silicizzato (ZrSi2)

Il target di sputtering in siliciuro di zirconio (ZrSi2) è stato progettato per applicazioni di sputtering ad alte prestazioni. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target offre una notevole stabilità termica e resistenza chimica. È ottimizzato per i processi di deposizione avanzati nella produzione di semiconduttori, nell'ottica e nei rivestimenti a film sottile, garantendo uniformità e durata in diverse applicazioni industriali. La produzione precisa e le forme personalizzabili del prodotto, che vanno dai dischi standard ai progetti su misura, lo rendono una scelta affidabile per le esigenze ingegneristiche più sofisticate.

Applicazioni dei target di sputtering al siliciuro di zirconio (ZrSi2)

- Deposizione di film sottili: Ideale per rivestimenti uniformi nella produzione di semiconduttori e celle solari.
- Produzione di semiconduttori: Supporta la produzione di dispositivi elettronici ad alte prestazioni.
- Optoelettronica: Utilizzata nello sviluppo di componenti ottici e sensori.
- Applicazioni di rivestimento: Migliora le prestazioni dei rivestimenti superficiali protettivi e funzionali.
- Strumenti di precisione: Adatti alla ricerca avanzata e ai processi industriali ad alta tecnologia.

Imballaggio del bersaglio di sputtering in siliciuro di zirconio (ZrSi2)

I nostri target sputtering in siliciuro di zirconio (ZrSi2) sono imballati con cura per garantirne le condizioni incontaminate al momento della consegna. Gli imballaggi standard sono progettati per una manipolazione sicura e i prodotti possono essere forniti in imballaggi sigillati sottovuoto o in altre opzioni di imballaggio personalizzate, a seconda delle esigenze.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering al siliciuro di zirconio (ZrSi2)?
R: È l'ideale per la deposizione di film sottili, la produzione di semiconduttori, l'optoelettronica e le applicazioni di rivestimento specializzate in cui è essenziale un'elevata stabilità termica e chimica.

D: Come viene mantenuta la purezza del target sputtering?
R: Il processo di produzione impiega rigorose misure di controllo della qualità e tecniche di produzione avanzate per garantire che il prodotto mantenga la sua purezza ≥99% per tutto il suo ciclo di vita.

D: In quali forme è disponibile il target di sputtering al siliciuro di zirconio?
R: Il target è disponibile come disco standard o può essere personalizzato per soddisfare i requisiti di un progetto specifico.

D: Il prodotto può essere personalizzato per specifiche applicazioni industriali?
R: Sì, le dimensioni e le forme disponibili possono essere personalizzate su richiesta per soddisfare le diverse esigenze di varie applicazioni high-tech.

D: Quali precauzioni bisogna prendere quando si maneggia il target di sputtering?
R: Si raccomanda di maneggiare il target utilizzando protocolli adeguati di camera bianca e misure anticontaminazione per mantenere l'integrità della superficie e le prestazioni durante lo stoccaggio e l'utilizzo.