Fuori produzione (Fuori produzione) ST0256 Target di sputtering al fluoruro di itterbio (YbF3)

Descrizione del target di sputtering al fluoruro di itterbio (YbF3)

Il target di sputtering al fluoruro di itterbio (YbF₃) è un materiale ad alte prestazioni sviluppato specificamente per tecniche di deposizione avanzate. Grazie alla lavorazione di precisione e ai rigorosi controlli di qualità, il target offre una purezza e una consistenza superiori per una serie di applicazioni elettroniche e ottiche. Le sue robuste proprietà fisiche garantiscono prestazioni ottimali nei processi di sputtering più impegnativi, rendendolo una scelta eccellente per la fabbricazione di film sottili all'avanguardia.

Applicazioni del target sputtering al fluoruro di itterbio (YbF3)

- Deposizione di film sottili: Essenziale per la creazione di rivestimenti di alta qualità nei dispositivi elettronici e ottici.
- Microelettronica: Ideale per la produzione di circuiti integrati e di dispositivi a semiconduttore.
- Optoelettronica: Utilizzata nella produzione di rivestimenti ottici avanzati e dispositivi fotonici.
- Ricerca e sviluppo: Fornisce prestazioni affidabili del materiale per applicazioni sperimentali e prototipi.
- Processi industriali personalizzati: Adatto a processi di sputtering specializzati che richiedono elevata purezza e prestazioni costanti.

Imballaggio del target di sputtering al fluoruro di itterbio (YbF3)

I nostri target di sputtering al fluoruro di itterbio sono confezionati con cura per mantenere l'integrità del prodotto durante il trasporto e lo stoccaggio.
Opzioni di imballaggio: Imballaggio sigillato sotto vuoto disponibile in dimensioni standard, con opzioni di imballaggio personalizzate su richiesta.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali dei target sputtering al fluoruro di itterbio?
R: Sono utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili in elettronica, optoelettronica e applicazioni di ricerca avanzata.

D: È possibile fabbricare dimensioni e forme personalizzate?
R: Sì, i nostri target di sputtering possono essere realizzati su misura in base alle specifiche richieste dei clienti.

D: Come influisce l'elevata purezza (≥99%) sul processo di sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce la presenza di contaminanti minimi, con conseguente qualità superiore del film, maggiore efficienza di sputtering e prestazioni costanti.

D: Quali sono le condizioni di conservazione ideali per questi target?
R: Devono essere conservati in un ambiente pulito e asciutto, lontano da umidità e contaminanti, per mantenere le loro prestazioni.

D: Ci sono procedure speciali per il trasporto?
R: Sì, gli obiettivi sono sigillati sottovuoto e imballati con cura per evitare danni e garantire che rimangano in condizioni ottimali durante il trasporto.