ST0246 Bersaglio di sputtering al fluoruro di magnesio (MgF₂)

Catalogo no.	ST0246
Composizione	MgF₂
Numero CAS	7783-40-6
La purezza	≥99% (99,9% / 99,99% disponibile)
Forma	Dischi o dischi personalizzati
Sinonimi	Obiettivo di sputtering al fluoruro di magnesio, obiettivo MgF2, obiettivo di rivestimento ottico

Stanford Advanced Materials si dedica al progresso della scienza dei materiali attraverso soluzioni ingegneristiche innovative e precise. I nostri prodotti sono sviluppati per soddisfare i rigorosi standard industriali, garantendo prestazioni e affidabilità eccezionali in ogni applicazione.

Richiesta

Descrizione

Specificazione

Recensioni

FAQ

D: Quale purezza di MgF2 mi serve per i rivestimenti ottici?

A: la purezza del 99,9% è sufficiente per la maggior parte dei rivestimenti ottici antiriflesso e protettivi. Il 99,99% è raccomandato per le ottiche laser e per le applicazioni di semiconduttori ad alta precisione, dove le tracce di impurità possono influire sulla trasmissione o causare difetti.

D: Perché lo sputtering RF è necessario per l'MgF2?

A: L'MgF2 è un isolante elettrico. Lo sputtering in corrente continua causa l'accumulo di cariche sulla superficie del target, con conseguente formazione di archi e instabilità del processo. È necessario uno sputtering a radiofrequenza.

D: Gli obiettivi di MgF2 devono essere legati?

A: Sì, si raccomanda l'incollaggio. L'MgF2 è fragile e ha una bassa conducibilità termica. Senza un adeguato legame con una piastra di supporto raffreddata, lo stress termico può incrinare il target durante lo sputtering. Il legame con l'indio è standard; per i sistemi che non possono utilizzare l'indio è disponibile il legame con l'elastomero.

D: Qual è la velocità tipica di sputtering per MgF2?

A: Le velocità di sputtering dipendono dalla potenza RF, dalla pressione e dalla configurazione del sistema. Le velocità tipiche vanno da 5-15 Å/sec a 3-5 W/cm². Contattateci con i dettagli del vostro sistema per ricevere raccomandazioni specifiche.

D: Quali sono i tempi di realizzazione di un target MgF2 personalizzato?

A: I dischi standard (2"-6") vengono solitamente spediti entro 1-2 settimane. Le forme personalizzate richiedono 2-3 settimane a seconda della complessità.

ULTIMO RACCOMANDATO

ST0001 Target di sputtering in alluminio (Al)

ST0003 Bersaglio di sputtering al bario (Ba)

ST0005 Bersaglio di sputtering al boro (B)

ST0006 Target di sputtering al cadmio (Cd)

https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg

ST0007 Bersaglio di calcio (Ca) per sputtering

ST0009 Bersaglio sputtering al cromo (Cr)

ST0010 Bersaglio di sputtering al cobalto (Co)

ST0011 Bersaglio di sputtering in rame (Cu)

Richiedi un preventivo

Inviaci oggi stesso una richiesta per saperne di più e ricevere i prezzi più aggiornati. Grazie!

* Il suo nome

* La sua email

Per una rapida elaborazione, si prega di utilizzare l'indirizzo e-mail aziendale.

* Nome del prodotto

* Il vostro telefono

* Paese

Italia

Purity

Diameter

Thickness

Bonding

Commenti

Desidero iscrivermi alla mailing list per ricevere aggiornamenti da Stanford Advanced Materials.

Allegare i disegni:

Lasciare i file qui o

* Codice di controllo

Tipi di file accettati: PDF, png, jpg, jpeg. È possibile caricare più file contemporaneamente; ogni file deve avere una dimensione inferiore a 2 MB.

Numero di catalogo	ST0246
Materiale	Fluoruro di magnesio (MgF₂)
Purezza	≥99% (99,9% / 99,99% disponibile)
Numero CAS	7783-40-6
Colore/Aspetto	Bianco cristallino
Punto di fusione	1,261°C
Densità teorica	3,15-3,18 g/cm³
Densità relativa	>98%
Indice di rifrazione (550nm)	1.38
Intervallo di trasmissione	0,12-8 μm
Metodo Sputter	RF
Tipo di legame	Indio, elastomero
Diametri standard	2", 3", 4", 6"
Spessore	0,125", 0,250" o personalizzato
Imballaggio	Sottovuoto

Proprietà	Specificazioni
Materiale	Fluoruro di magnesio (MgF₂)
Simbolo	MgF₂
Punto di fusione	1263℃
Densità	3,15 g/cm³
Sputter	RF
Tipo di legame	Indio, elastomero
Dimensioni disponibili	Su misura

ST0246 Bersaglio di sputtering al fluoruro di magnesio (MgF₂)

Descrizione del target di sputtering al fluoruro di magnesio (MgF2)

Specifiche

Applicazioni del target di sputtering al fluoruro di magnesio (MgF₂)

Imballaggio dei target di sputtering al fluoruro di magnesio (MgF₂)

Specificazione

SDS

Scheda di sicurezza

Cas

RECENSIONI DEI CLIENTI

FAQ

D: Quale purezza di MgF2 mi serve per i rivestimenti ottici?

D: Perché lo sputtering RF è necessario per l'MgF2?

D: Gli obiettivi di MgF2 devono essere legati?

D: Qual è la velocità tipica di sputtering per MgF2?

D: Quali sono i tempi di realizzazione di un target MgF2 personalizzato?

ULTIMO RACCOMANDATO

Richiedi un preventivo

HAI BISOGNO DI AIUTO?

CATEGORIE POPOLARI

LA NOSTRA AZIENDA