ST0239 Bersaglio di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3)

Descrizione del target di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3)

Il target di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3) è un materiale ad alte prestazioni progettato per applicazioni precise di deposizione di film sottili. Prodotto con processi all'avanguardia, offre una purezza eccezionale (≥99%) e proprietà uniformi, che lo rendono adatto a processi industriali avanzati. Il target è progettato per fornire prestazioni costanti nei sistemi di sputtering ed è ideale sia per la ricerca che per gli ambienti di produzione. Il suo elevato punto di fusione e la sua densità lo ottimizzano per le applicazioni più impegnative, garantendo durata ed efficacia in varie tecnologie di rivestimento e deposizione.

Applicazioni del target di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3)

- Produzione di semiconduttori: Ideale per i processi di deposizione nella microelettronica.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato per la produzione di rivestimenti ottici di precisione con un'eccellente uniformità.
- Incisione e deposizione al plasma: Migliora le prestazioni dei sistemi di sputtering al plasma.
- Ricerca e sviluppo: Adatti per le configurazioni sperimentali negli studi sui materiali avanzati.
- Rivestimenti speciali: Applicati in vari strumenti e componenti industriali per ottenere film sottili di alta qualità.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3)

Il target sputtering al fluoruro di cromo è confezionato con la massima cura per preservarne la purezza e l'integrità strutturale. Le opzioni includono il confezionamento sottovuoto per piccole quantità o soluzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Ogni confezione è chiaramente etichettata con i dettagli del prodotto per garantire una perfetta integrazione nel vostro processo di produzione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering al fluoruro di cromo (CrF3)?
R: Viene utilizzato principalmente nella produzione di semiconduttori, nella deposizione di rivestimenti ottici, nell'incisione al plasma e nelle applicazioni di ricerca in cui sono richieste prestazioni di sputtering di elevata purezza e costanza.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) del CrF₃ influisce sulle prestazioni?
R: L'elevata purezza garantisce un comportamento di sputtering costante, una contaminazione ridotta al minimo e una migliore uniformità del film sottile, fattori critici per i rivestimenti ad alte prestazioni e le applicazioni elettroniche.

D: Le dimensioni e la forma del target possono essere personalizzate?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o in forme personalizzate, consentendo soluzioni su misura per soddisfare i requisiti specifici del sistema di sputtering.

D: Quali sono i fattori da considerare quando si integra questo target in un processo di sputtering?
R: Le considerazioni includono la compatibilità con le apparecchiature di deposizione, la gestione termica a causa dell'elevato punto di fusione e la garanzia di una corretta manipolazione per mantenere la purezza e l'integrità strutturale.

D: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per mantenere la qualità del target?
R: Si consiglia di conservare il target in un ambiente asciutto e a temperatura controllata, lontano da umidità e contaminanti, possibilmente nella confezione originale sigillata sottovuoto fino al momento dell'uso.