ST0236 Bersaglio di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2)

Descrizione del target di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2)

Il target di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2) è progettato per applicazioni di sputtering ad alte prestazioni in processi industriali avanzati. Prodotto con un controllo di qualità meticoloso, questo target garantisce caratteristiche uniformi del materiale, essenziali per una deposizione affidabile. La sua elevata purezza e stabilità a temperature elevate lo rendono una scelta privilegiata per l'elettronica, i rivestimenti ottici e altre applicazioni di precisione. Inoltre, le forme personalizzabili disponibili consentono soluzioni su misura per soddisfare specifiche esigenze di produzione.

Applicazioni dei target di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2)

- Rivestimenti superficiali: Utilizzato nei processi di sputtering per depositare film sottili e uniformi su vari substrati.
- Produzione di semiconduttori: Svolge un ruolo cruciale nella fabbricazione di componenti ottici e strati isolanti.
- Dispositivi ottici: Impiegato nella produzione di lenti e altre apparecchiature ottiche grazie alle sue eccellenti proprietà di trasmissione negli intervalli UV e IR.
- Processi ad alta temperatura: Adatto per applicazioni che richiedono che i materiali mantengano l'integrità in condizioni di calore estremo.

Imballaggio del target di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2)

I nostri target di sputtering al fluoruro di calcio sono confezionati con cura per preservare l'integrità del materiale durante il trasporto. Le opzioni includono l'imballaggio sottovuoto per piccole quantità (ad esempio, 5 kg per sacchetto) e l'imballaggio alla rinfusa per ordini più grandi, assicurando che il prodotto arrivi in condizioni ottimali per l'uso immediato.

Domande frequenti

D: Quali sono i settori industriali che traggono vantaggio dall'utilizzo di target di sputtering al fluoruro di calcio (CaF2)?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, la produzione di dispositivi ottici e i processi di rivestimento superficiale ad alta temperatura traggono grande vantaggio dall'uso di target sputtering CaF2 ad alta purezza.

D: Come viene garantita l'elevata purezza (≥99%) dei target di sputtering CaF2?
R: La purezza è garantita da rigorose misure di controllo della qualità durante il processo di produzione e dall'utilizzo di tecnologie di purificazione avanzate per eliminare i contaminanti.

D: Le forme dei target sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, oltre alle forme standard dei dischi, i target possono essere realizzati su misura per soddisfare requisiti operativi o apparecchiature specifiche.

D: Quali sono gli attributi chiave delle prestazioni del target di sputtering CaF2?
R: Le caratteristiche principali includono un elevato punto di fusione di 1418℃, densità stabile, proprietà costanti del materiale e prestazioni eccellenti in applicazioni ad alta temperatura e di precisione.

D: Come devono essere conservati o manipolati i target di sputtering al fluoruro di calcio?
R: Devono essere conservati in un ambiente pulito e asciutto e maneggiati con cura utilizzando strumenti appropriati per evitare la contaminazione, assicurando che il target rimanga in condizioni immacolate per prestazioni ottimali.