Fuori produzione (Fuori produzione) ST0232 Bersaglio di sputtering in carburo di zirconio (ZrC)

Descrizione del target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC)

Il target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC) è stato progettato per le applicazioni di sputtering più esigenti. Prodotto con una purezza ≥99%, questo target offre prestazioni eccezionali in condizioni estreme grazie al suo elevato punto di fusione (3530℃) e alla sua robustezza fisica. È stato progettato specificamente per lo sputtering RF, garantendo una deposizione uniforme di film sottili e un'adesione superiore su vari substrati.

Applicazioni del target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC)

- Deposizione di film sottili: Ideale per rivestimenti di precisione nella produzione di semiconduttori e sensori.
- Aerospaziale ed energia: Offre prestazioni affidabili in ambienti ad alta temperatura per componenti aerospaziali avanzati e sistemi energetici.
- Rivestimenti industriali: Eccellenti per creare strati protettivi e resistenti all'usura su utensili e macchinari.
- Ricerca e sviluppo: Adatto per processi sperimentali di sputtering in progetti di scienza dei materiali e nanotecnologia.

Imballaggio del target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC)

I nostri target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC) sono imballati in modo sicuro per mantenere le loro condizioni incontaminate durante lo stoccaggio e la spedizione. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le varie esigenze di manipolazione e applicazione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni tipiche del target di sputtering in carburo di zirconio (ZrC)?
R: Viene utilizzato principalmente nei processi di sputtering RF per la deposizione di film sottili su substrati nei settori dei semiconduttori, aerospaziale ed energetico.

D: Qual è il significato dell'elevato punto di fusione dello ZrC?
R: L'elevato punto di fusione (3530℃) garantisce un'eccellente stabilità termica e affidabilità in condizioni di lavorazione estreme.

D: Perché lo sputtering RF è favorito per questo target?
R: Lo sputtering a radiofrequenza facilita la deposizione uniforme del film, soprattutto su substrati non conduttivi, migliorando la qualità complessiva del rivestimento.

D: Quanto sono personalizzabili le dimensioni dei target disponibili?
R: I target sono disponibili in dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di apparecchiature e applicazioni specifiche, compresi vari formati di dischi.

D: Che ruolo hanno i materiali di incollaggio in questo target di sputtering?
R: L'uso di legami di indio ed elastomero assicura un'adesione e una stabilità ottimali durante il processo di sputtering, contribuendo a prestazioni costanti.