(Fuori produzione) ST0220 Bersaglio per sputtering al nitruro di zirconio (ZrN)

Descrizione del target di sputtering in nitruro di zirconio (ZrN)

Il target di sputtering in nitruro di zirconio (ZrN) è un materiale ad alte prestazioni progettato per tecniche avanzate di deposizione di film sottili. Prodotto con una purezza eccezionale (≥99%), questo target di sputtering assicura una deposizione affidabile per le applicazioni che richiedono una robusta resistenza all'usura, un'eccellente adesione e un aspetto decorativo dorato. Le sue proprietà fisiche superiori e le capacità di sputtering RF lo rendono ideale per dispositivi semiconduttori di fascia alta, rivestimenti decorativi e strati superficiali protettivi.

Applicazioni dei target di sputtering al nitruro di zirconio (ZrN)

- Microelettronica: Depositato come film sottile nei dispositivi a semiconduttore per migliorare le prestazioni e la durata.

- Rivestimenti decorativi: Utilizzati per conferire un'attraente finitura dorata a prodotti di consumo ed elementi architettonici.

- Rivestimenti per utensili: Forniscono un'eccellente resistenza all'usura e prolungano la durata degli utensili da taglio e di lavorazione.

- Aerospaziale: Applicati come rivestimento protettivo per migliorare la resistenza alla corrosione e alle sollecitazioni termiche.

- Componenti industriali: Impiegati nella fabbricazione di componenti che richiedono elevata durezza e durata in condizioni estreme.

Imballaggio del target di sputtering in nitruro di zirconio (ZrN)

I nostri target sputtering al nitruro di zirconio sono confezionati con cura per preservarne l'elevata purezza e l'integrità strutturale durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui confezioni sigillate sottovuoto per dischi e ordini all'ingrosso per soddisfare specifiche esigenze industriali.

Domande frequenti

D: Quali sono i vantaggi dell'uso di ZrN nei target di sputtering?
R: Lo ZrN offre un'eccellente resistenza all'usura, un'elevata durezza e un aspetto decorativo dorato, che sono preziosi sia per le applicazioni funzionali che per quelle estetiche.

D: Il target di sputtering può essere personalizzato per forma e dimensione?
R: Sì, i nostri target di sputtering al nitruro di zirconio sono disponibili in dischi standard o possono essere personalizzati in base alle specifiche del cliente.

D: Quali metodi di sputtering sono compatibili con questo target?
R: Questo target è ottimizzato per le tecniche di sputtering RF e RF-R, garantendo un'applicazione versatile in vari sistemi di deposizione.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) dello ZrN favorisce il processo di sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce una contaminazione minima, che porta a una qualità superiore del film, a una maggiore adesione e a prestazioni costanti nella deposizione di film sottili.

D: Il target di sputtering in nitruro di zirconio è adatto ad applicazioni ad alta temperatura?
R: Sì, con un punto di fusione di 2980℃ ed eccellenti proprietà termiche, è adatto ad applicazioni che comportano alte temperature e sollecitazioni termiche.