ST0218 Bersaglio di nitruro di vanadio (VN) per sputtering

Descrizione del target di sputtering al nitruro di vanadio (VN)

Il target di sputtering al nitruro di vanadio (VN) è stato progettato con una tecnologia all'avanguardia per offrire uniformità e durata superiori in ambienti di deposizione esigenti. La sua composizione di elevata purezza garantisce proprietà di sputtering costanti e prestazioni ottimali in applicazioni quali la produzione di semiconduttori, la deposizione di film sottili e i trattamenti superficiali.

Applicazioni dei target di sputtering al nitruro di vanadio (VN)

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per la deposizione di film sottili nei circuiti integrati e nella fabbricazione di dispositivi.
- Deposizione di film sottili: Ideale per creare rivestimenti uniformi con microstrutture controllate.
- Dispositivi optoelettronici: Offre un'elevata affidabilità per i diodi a emissione luminosa e le celle fotovoltaiche.
- Rivestimenti superficiali: Migliorano la resistenza all'usura e le prestazioni di utensili e componenti.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato nella ricerca sui materiali avanzati per sviluppare bersagli sputtering di nuova generazione.

Imballaggio dei target di sputtering in nitruro di vanadio (VN)

I nostri target sputtering VN sono confezionati sotto un rigoroso controllo di qualità per preservarne l'elevata purezza.
Imballaggio sigillato sotto vuoto: 5 kg per sacchetto, 25 kg per fusto.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering VN?
R: Questo target è utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nell'optoelettronica e nelle tecnologie di rivestimento superficiale.

D: In che modo il livello di purezza influisce sulle prestazioni del target?
R: L'elevata purezza del ≥99% garantisce prestazioni di sputtering costanti, riduce al minimo la contaminazione e migliora la qualità complessiva dei film depositati.

D: Il target può essere personalizzato?
R: Sì, il target di sputtering VN può essere prodotto in dischi standard o in forme personalizzate per adattarsi a specifiche attrezzature e requisiti applicativi.

D: Qual è il significato del numero CAS fornito?
R: Il numero CAS (24646-85-3) identifica in modo univoco il nitruro di vanadio, garantendo la tracciabilità e la conformità alle normative del settore.

D: È necessaria una manipolazione speciale per il target di sputtering VN?
R: Si raccomanda di maneggiare con cura il target per evitare contaminazioni e danni meccanici, che possono influire sulle sue prestazioni di sputtering.