ST0217 Bersaglio di nitruro di titanio (TiN) per sputtering

Descrizione del target di nitruro di titanio (TiN) per sputtering

Il target di nitruro di titanio (TiN) è un materiale all'avanguardia progettato per applicazioni di precisione. Prodotto con un rigoroso controllo di qualità, questo target presenta un'eccellente stabilità termica e una microstruttura densa e omogenea, garantendo prestazioni eccezionali nei processi di sputtering RF e RF-R. Il suo aspetto giallo-oro è indicativo della sua alta qualità e purezza. Il prodotto è un candidato ideale per le applicazioni di deposizione che richiedono durata, bassa densità di difetti ed elevata efficienza operativa.

Applicazioni dei target di sputtering al nitruro di titanio (TiN)

- Fabbricazione di dispositivi a semiconduttore: Fornisce un'eccellente uniformità del film e un'ottima adesione per i circuiti integrati e le strutture dei transistor.
- Rivestimenti decorativi: Offre una finitura lucida e una maggiore resistenza all'usura per applicazioni decorative di alto livello.
- Rivestimenti ottici: Consentono un controllo preciso delle proprietà ottiche nei film sottili per lenti e specchi.
- Componenti industriali: Adatti alla produzione di componenti che richiedono una resistenza superficiale avanzata all'usura e alla corrosione.

Imballaggio dei target di sputtering al nitruro di titanio (TiN)

I nostri target di nitruro di titanio (TiN) sono imballati con la massima cura per mantenerne l'integrità durante il trasporto e lo stoccaggio.
- Opzioni di imballaggio personalizzate: In base alle esigenze del cliente, per garantire una protezione ottimale.
- Sigillatura standard: Uso di imballaggi sottovuoto o con gas inerte per prevenire la contaminazione e l'ossidazione.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni più adatte per il target di sputtering TiN?
R: È l'ideale per la produzione di semiconduttori, rivestimenti decorativi, rivestimenti ottici e altre applicazioni industriali di precisione che richiedono elevate prestazioni e stabilità.

D: In che modo il processo di sputtering trae vantaggio dall'utilizzo di un target TiN?
R: L'elevata purezza e la microstruttura uniforme del target assicurano un'eccellente uniformità del film, adesione e durata dei rivestimenti sputterati.

D: Le dimensioni disponibili possono essere personalizzate per applicazioni specifiche?
R: Sì, il target è disponibile in dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di apparecchiature e applicazioni specifiche.

D: Qual è il significato dell'uso dei metodi di sputtering RF e RF-R con questo target?
R: I metodi di sputtering RF e RF-R sono adatti a target isolanti o resistivi come il TiN, garantendo un trasferimento di energia efficiente e una deposizione di film di alta qualità.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering TiN per mantenerne la qualità?
R: Deve essere conservato in un ambiente asciutto, pulito e a temperatura controllata, preferibilmente in contenitori sigillati sotto vuoto o con gas inerte per evitare l'ossidazione e la contaminazione.