ST0211 Bersaglio di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4)

Descrizione del target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4)

Il target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4) è progettato per processi di deposizione di film sottili ad alta precisione. Prodotto con una purezza del ≥99%, questo target è disponibile in forma di disco standard o come soluzione personalizzata per soddisfare specifiche esigenze industriali. L'eccellente stabilità termica e le prestazioni costanti lo rendono un materiale affidabile per applicazioni avanzate di sputtering e rivestimento.

Applicazioni del target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4)

- Produzione di semiconduttori: Ideale per depositare film sottili di alta qualità nei dispositivi microelettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella fabbricazione di componenti ottici di precisione.
- Ricerca e sviluppo: Impiegato in laboratori all'avanguardia per l'innovazione e l'analisi dei materiali.
- Dispositivi energetici: Adatto alla produzione di componenti per celle fotovoltaiche e altri sistemi energetici.

Imballaggio del target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4)

Il nostro target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4) è confezionato con cura per preservarne l'elevata purezza e l'integrità strutturale. L'imballaggio standard comprende contenitori sigillati sottovuoto progettati per proteggere il target durante lo stoccaggio e il trasporto, con opzioni di imballaggio personalizzate disponibili su richiesta.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering al nitruro di germanio (Ge3N4)?
R: È utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nei semiconduttori, nei rivestimenti ottici e nella produzione di dispositivi elettronici.

D: Il target può essere personalizzato per forma o dimensione?
R: Sì, il target è disponibile in forma di disco standard e in design personalizzati per soddisfare le esigenze di applicazioni specifiche.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) durante la produzione?
R: Il prodotto è sottoposto a rigorose procedure di controllo della qualità e utilizza tecniche di produzione avanzate per garantire e mantenere l'elevata purezza.

D: Cosa indica il punto di fusione ~1250℃ del prodotto?
R: Il punto di fusione riflette l'eccellente stabilità termica del materiale, che lo rende ideale per i processi di sputtering e rivestimento ad alta temperatura.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering in nitruro di germanio (Ge3N4)?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto, in condizioni controllate, per evitare la contaminazione e garantire prestazioni ottimali.