ST0193 Bersaglio di sputtering in ossido di tulio (Tm2O3)

Descrizione del target di sputtering in ossido di tulio (Tm2O3)

Il target di sputtering in ossido di tulio (Tm2O3) è progettato per la deposizione precisa di film sottili in applicazioni elettroniche e ottiche. Con una composizione chimica di Tm₂O₃ e una purezza di ≥99%, garantisce prestazioni di sputtering costanti e riproducibili. Il target è disponibile sotto forma di dischi o può essere personalizzato in base a dimensioni specifiche per soddisfare le varie esigenze industriali. Il suo elevato punto di fusione e la sua densità gli consentono di resistere ad ambienti di sputtering rigorosi, rendendolo una scelta eccellente per i processi ad alta temperatura e le applicazioni più impegnative.

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di tulio (Tm2O3)

- Microelettronica: Ideale per la fabbricazione di film sottili nella produzione di dispositivi a semiconduttore.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato per depositare film ottici di alta qualità in dispositivi fotonici avanzati.
- Applicazioni energetiche: Adatto per rivestimenti ad alta temperatura in dispositivi di potenza ed energia.
- Ricerca e sviluppo: Impiegato negli studi sui materiali avanzati e nei processi sperimentali di sputtering.

Imballaggio del target di sputtering in ossido di tulio (Tm2O3)

I nostri target sputtering all'ossido di tulio sono imballati in modo sicuro in contenitori sigillati sotto vuoto per preservare l'integrità del materiale durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui configurazioni a sacchetto o a fusto, per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Domande frequenti

D: Quali sono i principali vantaggi dell'utilizzo dell'ossido di tulio nei target di sputtering?
R: L'ossido di tulio offre una purezza eccezionale, un'elevata stabilità termica e una durata chimica superiore, che lo rendono ideale per applicazioni avanzate di deposizione di film sottili.

D: È possibile personalizzare la forma e le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, i nostri target sputtering all'ossido di tulio sono disponibili in forme standard a disco o possono essere personalizzati per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

D: Quali industrie utilizzano comunemente i target sputtering all'ossido di tulio?
R: Sono ampiamente utilizzati nei settori della microelettronica, dei rivestimenti ottici, dell'energia e della ricerca, dove la precisione e la stabilità dei materiali sono fondamentali.

D: In che modo l'elevato punto di fusione dell'ossido di tulio favorisce il processo di sputtering?
R: L'elevato punto di fusione assicura che il materiale target rimanga stabile durante lo sputtering, garantendo così una deposizione uniforme del film e una maggiore affidabilità del processo.

D: Quali misure di garanzia della qualità vengono adottate per questi target di sputtering?
R: I nostri target sono sottoposti a rigorosi protocolli di controllo della qualità, tra cui la verifica della purezza e il test delle prestazioni, per garantire che soddisfino costantemente gli elevati standard richiesti per le applicazioni industriali avanzate.