ST0180 Bersaglio di sputtering in ossido di niobio (Nb2O5)

Descrizione del target di sputtering in ossido di niobio (Nb2O5)

Il target di sputtering in ossido di niobio (Nb2O5) è stato progettato per applicazioni di sputtering avanzate in cui l'elevata purezza e le prestazioni costanti sono fondamentali. Prodotto con tecniche di lavorazione all'avanguardia, questo target offre proprietà uniformi del materiale, ideali per la deposizione di film sottili nell'industria microelettronica e ottica. La sua composizione robusta garantisce un'eccellente durata in condizioni di sputtering RF ad alta potenza, rendendolo una scelta affidabile per i requisiti di produzione complessi.

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di niobio (Nb2O5)

- Microelettronica: Ideale per la creazione di film sottili nei dispositivi a semiconduttore.
- Rivestimenti ottici: Utilizzato nei processi di deposizione per produrre film ottici di alta qualità.
- Fotovoltaico: supporta la produzione di pannelli solari e dispositivi energetici correlati.
- Ricerca e sviluppo: Impiegati negli studi sui materiali avanzati e nella fabbricazione di prototipi.
- Rivestimenti industriali: Fornisce rivestimenti uniformi e durevoli per varie applicazioni industriali.

Confezionamento di target sputtering in ossido di niobio (Nb2O5)

Il nostro target sputtering all'ossido di niobio è confezionato meticolosamente per preservarne l'elevata purezza e integrità. È sigillato sottovuoto e imballato in modo sicuro in contenitori personalizzati progettati per prevenire la contaminazione e i danni fisici durante il trasporto. Le opzioni di imballaggio sono disponibili in vari pesi in base ai requisiti dell'applicazione.

Domande frequenti

D: Quali sono i settori che traggono i maggiori vantaggi dall'uso del target di sputtering in ossido di niobio (Nb2O5)?
R: Industrie come la microelettronica, l'ottica, il fotovoltaico e i rivestimenti industriali traggono grandi vantaggi grazie alla sua elevata purezza e alle sue prestazioni costanti.

D: Quali metodi di sputtering sono compatibili con questo target?
R: Questo target supporta i metodi di sputtering RF e RF-R, rendendolo versatile per diversi processi di deposizione di film sottili.

D: In che modo la purezza del target di ossido di niobio influisce sulle sue prestazioni?
R: Un livello di purezza ≥99% garantisce impurità minime, che portano a film sottili più uniformi e a prestazioni migliori dei dispositivi.

D: Sono disponibili forme personalizzate per il target di sputtering?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

D: Come deve essere conservato il target di sputtering all'ossido di niobio?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto e mantenuto nella sua confezione originale sigillata sotto vuoto per mantenerne l'elevata purezza ed efficacia.