ST0179 Bersaglio di ossido di nichel (NiO) per sputtering

Descrizione del target di sputtering all'ossido di nichel (NiO)

Il target di sputtering in ossido di nichel (NiO) è un materiale ad alte prestazioni progettato per applicazioni avanzate di sputtering. Prodotto con una purezza del ≥99%, garantisce una deposizione stabile e costante del film, essenziale per i processi industriali critici. Disponibile in forme discoidali standard o in configurazioni personalizzate, questo target è ottimizzato per lo sputtering RF-R, garantendo una distribuzione uniforme dell'energia e un'efficiente formazione di film sottili. Con un punto di fusione di 1955℃ e una densità di 6,67 g/cm³, il target resiste a condizioni operative estreme e rappresenta la scelta ideale per i settori dei semiconduttori, dell'ottica e del rivestimento superficiale.

Applicazioni dei target di sputtering all'ossido di nichel (NiO)

- Produzione di semiconduttori: Fornisce film sottili di alta qualità per dispositivi elettronici, sensori e celle solari.
- Rivestimenti ottici: Ideale per produrre rivestimenti avanzati con proprietà ottiche controllate.
- Dispositivi energetici: Utile per la produzione di componenti per batterie, celle a combustibile e altri sistemi energetici.
- Ricerca e sviluppo: Serve come materiale affidabile per lo sviluppo di tecniche di sputtering innovative e per gli studi sui materiali.

Imballaggio del target di sputtering all'ossido di nichel (NiO)

I nostri target di sputtering all'ossido di nichel (NiO) sono confezionati con cura per mantenerne la purezza e l'integrità strutturale durante lo stoccaggio e il trasporto. I target sono sigillati sottovuoto in imballaggi progettati su misura per soddisfare i requisiti specifici dei nostri clienti, garantendo una protezione e prestazioni ottimali al momento della consegna.

Domande frequenti

D: Quali sono i vantaggi dello sputtering RF-R per questo target?
R: Lo sputtering RF-R consente una distribuzione più uniforme della potenza sul bersaglio, con conseguente deposizione costante di film sottile anche su materiali isolanti.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) del target NiO è vantaggiosa per le applicazioni di sputtering?
R: L'elevata purezza riduce al minimo le impurità nei film depositati, garantendo migliori proprietà elettriche, ottiche e meccaniche per applicazioni ad alte prestazioni.

D: Il target può essere personalizzato in base a dimensioni e forme diverse?
R: Sì, oltre alle forme standard dei dischi, il nostro target di sputtering all'ossido di nichel (NiO) può essere personalizzato per soddisfare requisiti di processo specifici.

D: Quali sono i settori industriali più adatti all'utilizzo di questo target di sputtering?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, i rivestimenti ottici, i dispositivi energetici e i laboratori di ricerca avanzata traggono grande beneficio dai nostri target NiO ad alte prestazioni.

D: Come deve essere trattato il target per mantenere la sua qualità durante la spedizione?
R: I target sono sigillati sottovuoto in imballaggi speciali progettati per proteggere dalla contaminazione, dai danni fisici e dai fattori ambientali durante il trasporto.