Descrizione del target di sputtering in ossido di molibdeno (MoO₃)
Il target di sputtering in ossido di molibdeno (MoO₃) è progettato per processi di sputtering ad alte prestazioni in applicazioni industriali critiche. Prodotto secondo standard rigorosi, questo target offre un'eccellente consistenza e purezza per la deposizione di film sottili avanzati. Le sue proprietà robuste lo rendono una scelta ideale per la produzione di semiconduttori, display e varie tecnologie di rivestimento.
Applicazioni del target di sputtering in ossido di molibdeno (MoO₃)
- Produzione di semiconduttori: Fornisce film sottili uniformi essenziali per i circuiti integrati e i dispositivi microelettronici.
- Tecnologie di visualizzazione: Utilizzato nella deposizione di film conduttivi trasparenti e di altri componenti per display.
- Rivestimenti di superficie: Ideale per creare rivestimenti resistenti alla corrosione e all'usura nelle applicazioni industriali.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato in configurazioni sperimentali per studi avanzati sui materiali e per nuovi processi di rivestimento.
Imballaggio del target di sputtering in ossido di molibdeno (MoO₃)
Il nostro target sputtering in ossido di molibdeno (MoO₃) è confezionato con cura per mantenerne la qualità e le prestazioni.
L'imballaggio sigillato sotto vuoto garantisce la protezione durante lo stoccaggio e il trasporto. Su richiesta sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate.
Domande frequenti
D: Che cos'è un target sputtering?
R: È una sorgente di materiale utilizzata nei processi di sputtering per depositare film sottili su substrati bombardando il bersaglio con particelle energetiche.
D: Perché il MoO₃ è utilizzato nei target di sputtering?
R: Il MoO₃ offre elevata purezza, stabilità chimica ed eccellenti prestazioni di sputtering, che lo rendono ideale per applicazioni di rivestimento precise.
D: Cosa significa "sputtering RF"?
R: Lo sputtering RF si riferisce all'uso di energia a radiofrequenza per creare un plasma per il processo di sputtering, adatto a bersagli isolanti o scarsamente conduttivi.
D: Il target può essere personalizzato?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o in forme personalizzate in base a specifiche esigenze industriali.
D: Come influisce la densità di MoO₃ sulle sue prestazioni?
R: Una densità di 4,69 g/cm³ assicura una velocità di sputtering costante e una qualità ottimale del film, contribuendo a risultati sperimentali e produttivi affidabili.
