(Fuori produzione) ST0170 Bersaglio di sputtering in titanato di piombo e zirconio (PbZr0,52Ti0,48O3)

Descrizione del target di sputtering in titanato di piombo e zirconio (PbZr0,52Ti0,48O3)

Il target di sputtering in titanato di piombo e zirconio (PbZr0,52Ti0,48O3) è stato progettato per applicazioni di alta precisione nei processi di sputtering. Progettato per soddisfare gli impegnativi requisiti dell'elettronica moderna e del rivestimento di materiali avanzati, questo target offre purezza e prestazioni eccezionali. Le sue caratteristiche di alta qualità garantiscono coerenza e affidabilità in varie applicazioni industriali high-tech.

Target di sputtering al piombo-zirconio-titanato (PbZr0,52Ti0,48O3) Applicazioni

- Fabbricazione elettronica: Ideale per la produzione di film sottili utilizzati nella microelettronica avanzata.
- Rivestimento superficiale: Fornisce strati uniformi e consistenti nelle applicazioni di rivestimento.
- Ricerca avanzata sui materiali: Supporta lo sviluppo e i test nei laboratori di scienza dei materiali.
- Processi industriali personalizzati: Disponibile in forme personalizzate per soddisfare i requisiti di processo specifici.

Imballaggio dei target di sputtering in titanato di piombo e zirconio (PbZr0,52Ti0,48O3)

I nostri target sputtering sono accuratamente confezionati in condizioni controllate per mantenere la qualità delle loro prestazioni. Ogni target è sigillato sotto vuoto e chiaramente etichettato. Sono previste anche opzioni di confezionamento personalizzate in base alle esigenze specifiche del cliente.

Domande frequenti

D: Quali tipi di metodi di sputtering possono essere utilizzati con questo target?
R: Questo target supporta i metodi di sputtering RF, RF-R e DC.

D: In che modo l'elevata purezza (≥99%) influisce sulle prestazioni del processo di sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce impurità minime, che portano a una qualità costante del film e a prestazioni affidabili in applicazioni critiche.

D: È possibile personalizzare le forme e le dimensioni del target di sputtering?
R: Sì, oltre alle forme standard dei dischi, sono disponibili opzioni personalizzate per soddisfare requisiti di produzione unici.

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target di sputtering in titanato di zirconio e piombo?
R: Industrie come la produzione elettronica, il rivestimento delle superfici e la ricerca sui materiali avanzati utilizzano comunemente questi target sputtering.

D: In che modo la densità di ~8,0 g/cm³ è significativa per le prestazioni del target?
R: La densità specificata è fondamentale per ottenere l'integrità strutturale e le prestazioni desiderate durante il processo di sputtering, garantendo una deposizione uniforme.