ST0165 Target di sputtering in ossido di lantanio e vanadio (LaVO3)

Descrizione del target di sputtering in ossido di lantanio e vanadio (LaVO3)

Il target di sputtering in ossido di lantanio e vanadio (LaVO3) è un materiale di qualità superiore sviluppato per applicazioni avanzate di deposizione di film sottili e rivestimento superficiale. Prodotto con precisione meticolosa, questo target garantisce un'elevata integrità strutturale e stabilità, rendendolo la scelta ideale per i processi industriali ad alte prestazioni.

Costruito per soddisfare i più severi standard di qualità, il target offre prestazioni di sputtering costanti in modalità RF, RF-R e DC. L'elevata purezza e le opzioni di fabbricazione personalizzate consentono agli utenti di ottenere un'uniformità superiore del film e una maggiore affidabilità del prodotto in applicazioni che comprendono la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, celle solari e altre tecnologie all'avanguardia.

Applicazioni dei target sputtering in ossido di lantanio e vanadio (LaVO3)

- Deposizione di film sottili: Facilita la creazione di film sottili uniformi e di alta qualità per dispositivi elettronici avanzati.
- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per produrre componenti precisi nella produzione di semiconduttori.
- Rivestimenti superficiali: Migliorano la resistenza all'usura e la protezione dalla corrosione di strumenti e macchinari industriali.
- Ricerca e sviluppo: Sostiene le attività di ricerca e sviluppo avanzate nel campo della scienza dei materiali e della fisica applicata.

Imballaggio dei target sputtering in ossido di lantanio e vanadio (LaVO3)

I nostri target sputtering sono confezionati in condizioni controllate per preservare l'integrità del prodotto. Ogni target è accuratamente sigillato sottovuoto e disponibile in dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di applicazioni specifiche.

Domande frequenti

D: Quali modalità di sputtering sono supportate da questo target?
R: Il target supporta le modalità di sputtering RF, RF-R e DC, offrendo versatilità per varie tecniche di deposizione.

D: Questo target può essere personalizzato in base a requisiti specifici?
R: Sì, il target è disponibile in forme e dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di applicazioni specifiche.

D: Per quali applicazioni è più adatto il target di sputtering all'ossido di lantanio e vanadio?
R: È ideale per la deposizione di film sottili nella fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti superficiali e ricerca e sviluppo avanzati nella scienza dei materiali.

D: In che modo l'elevata purezza del target favorisce il processo di sputtering?
R: L'elevata purezza (≥99%) garantisce una qualità costante del film, una migliore efficienza di deposizione e una contaminazione ridotta al minimo durante la lavorazione.

D: Quali misure vengono adottate durante il confezionamento per mantenere la qualità del target?
R: I target sono sigillati sotto vuoto e manipolati in condizioni controllate per mantenerne l'integrità e le prestazioni dalla produzione all'uso finale.