ST0164 Bersaglio per sputtering di titanato di lantanio (LaTiO3)

Descrizione del target di sputtering in titanato di lantanio (LaTiO3)

Il target di sputtering in titanato di lantanio (LaTiO3) è progettato per processi di deposizione di film sottili ad alta efficienza. Prodotto sotto un rigoroso controllo di qualità, la composizione, la purezza e l'integrità strutturale del target garantiscono prestazioni eccezionali in applicazioni industriali avanzate. La sua versatilità nelle tecniche di sputtering (RF, RF-R e DC) lo rende una scelta ideale per i dispositivi a semiconduttore, i rivestimenti ottici e la fabbricazione di circuiti integrati. Il prodotto può essere personalizzato in forma e dimensioni per soddisfare le diverse esigenze delle applicazioni tecnologiche all'avanguardia.

Applicazioni del bersaglio sputtering in titanato di lantanio (LaTiO3)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di dispositivi a semiconduttore e circuiti integrati.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di componenti ottici ad alte prestazioni con riflettività e durata superiori.
- Celle fotovoltaiche: Migliora l'efficienza delle celle solari grazie all'applicazione precisa di film sottili.
- Ricerca avanzata: Ampiamente utilizzato nella ricerca e sviluppo di materiali high-tech e innovazioni nei processi di deposizione.

Imballaggio del target di sputtering in titanato di lantanio (LaTiO3)

I nostri target sputtering in titanato di lantanio sono confezionati con cura per preservarne le condizioni incontaminate durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni di confezionamento possono essere personalizzate; in genere, i target sono sigillati sotto vuoto o avvolti con materiali protettivi standard del settore per mantenere l'integrità del prodotto.

Domande frequenti

D: Quali tecniche di sputtering posso utilizzare con questo target?
R: Questo target è compatibile con i metodi di sputtering RF, RF-R e DC.

D: Che livello di purezza ha il target di titanato di lantanio?
R: Il target è prodotto con una purezza del ≥99%.

D: Sono disponibili forme e dimensioni personalizzate per questo target di sputtering?
R: Sì, il target è disponibile come disco standard o può essere personalizzato in base alle vostre specifiche esigenze.

D: Quali sono le applicazioni tipiche di un target di sputtering in titanato di lantanio?
R: È ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, nella produzione di rivestimenti ottici, nella fabbricazione di celle fotovoltaiche e nelle applicazioni di ricerca avanzata.

D: Come viene confezionato il prodotto per garantire la qualità durante il trasporto?
R: I target sono solitamente sigillati sottovuoto o imballati con materiali protettivi per garantire che rimangano incontaminati e mantengano la loro qualità durante lo stoccaggio e il trasporto.