ST0162 Bersaglio di sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO3)

Descrizione del target di sputtering in ossido di lantanio-niobio (LaNbO3)

Il target di sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO₃) è progettato per offrire prestazioni eccezionali in una varietà di applicazioni di sputtering. Prodotto in rigorose condizioni di controllo della qualità per ottenere una purezza del ≥99%, il target è progettato per una deposizione affidabile di film sottili su diversi substrati. Le forme personalizzabili e le robuste proprietà fisiche, tra cui l'elevato punto di fusione e la densità, lo rendono la scelta ideale per la ricerca e i processi industriali che richiedono precisione e coerenza.

Applicazioni dei target sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO3)

- Fabbricazione di semiconduttori: Ottimizzato per la produzione di film sottili di alta qualità nei dispositivi a semiconduttore.
- Tecnologie di rivestimento: Ideale per l'uso nei sistemi di sputtering per depositare rivestimenti robusti e uniformi.
- Ricerca sui materiali avanzati: Fornisce un mezzo affidabile per i processi di deposizione sperimentale.
- Ingegneria delle superfici: Consente applicazioni precise di film sottili in vari settori industriali.

Impacchettamento del target di sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO3)

Il nostro target sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO₃) è imballato in modo sicuro per mantenere la sua qualità durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, garantendo che il prodotto arrivi in condizioni ottimali per l'uso immediato.

Domande frequenti

D: Quali sono le principali applicazioni industriali del target di sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO3)?
R: Viene utilizzato principalmente nella fabbricazione di semiconduttori, nei processi di rivestimento a film sottile e nella ricerca sui materiali avanzati, dove sono essenziali un'elevata purezza e una deposizione affidabile.

D: Come viene prodotto il target sputtering in ossido di lantanio e niobio (LaNbO3)?
R: Il target è prodotto con tecniche di ingegneria di precisione, sotto un rigoroso controllo di qualità, per garantire una purezza ≥99% e prestazioni affidabili nelle applicazioni di sputtering.

D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, il prodotto è disponibile in forme di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici di progettazione e applicazione.

D: Quali sono le principali proprietà fisiche di questo target di sputtering?
R: Ha un punto di fusione di circa 1630℃ e una densità di circa 7,1 g/cm³, che lo rendono adatto ad applicazioni ad alta temperatura e a processi che richiedono proprietà materiali robuste.

D: Come è stato progettato l'imballaggio per proteggere il target di sputtering durante il trasporto?
R: Il target viene imballato con cura, con la possibilità di personalizzare l'imballaggio per garantire che la sua integrità sia mantenuta durante lo stoccaggio e il trasporto, soddisfacendo le esigenze specifiche di ogni cliente.