Descrizione del target di sputtering al manganato di lantanio e calcio (La0,67Ca0,33MnO3)
Il target di sputtering al manganato di lantanio e calcio (La0,67Ca0,33MnO3) è stato progettato per applicazioni avanzate di deposizione di film sottili. Prodotto con una miscela precisa di La2O3, Mn3O4 e CaO, questo target garantisce prestazioni costanti in condizioni di sputtering difficili. L'elevata purezza e la microstruttura controllata consentono una deposizione affidabile sia nella ricerca che nell'industria. Progettato per essere compatibile con i sistemi di sputtering RF, RF-R e DC, offre una qualità uniforme del film ed eccellenti proprietà di adesione.
Target di sputtering di manganato di lantanio e calcio (La0,67Ca0,33MnO3) Applicazioni
- Produzione di dispositivi a semiconduttore: Ideale per la produzione di film sottili di alta qualità nei componenti elettronici.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di filtri ottici di precisione, specchi e altri componenti.
- Tecnologie dei display: Supporta i processi di deposizione nella produzione di pannelli LCD e OLED.
- Ricerca avanzata: Offre prestazioni costanti per studi di scienza dei materiali e applicazioni sperimentali.
- Rivestimenti industriali: Fornisce un'eccellente uniformità del film per rivestimenti protettivi e funzionali in vari settori industriali.
Imballaggio dei target sputtering in manganato di lantanio e calcio (La0,67Ca0,33MnO3)
I nostri target sputtering sono confezionati con la massima cura per garantire che arrivino in condizioni immacolate. Sono disponibili in formato disco standard o in configurazioni personalizzate e vengono spediti in condizioni controllate per mantenere la loro alta qualità durante il trasporto.
Domande frequenti
D: Quali tecniche di sputtering sono compatibili con questo target?
R: Questo target è compatibile con i sistemi di sputtering RF, RF-R e DC, il che lo rende versatile per vari processi di deposizione di film sottili.
D: Posso richiedere una forma o una dimensione personalizzata per il target di sputtering?
R: Sì, il prodotto è disponibile come disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti applicativi specifici.
D: In che modo la composizione di La2O3 / Mn3O4 / CaO favorisce il processo di sputtering?
R: La composizione precisa garantisce un'elevata purezza e una microstruttura controllata, che si traduce in una qualità costante del film, condizioni di deposizione stabili e prestazioni migliori.
D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target di sputtering al manganato di lantanio e calcio?
R: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella produzione di rivestimenti ottici, nella tecnologia dei display e nelle applicazioni di ricerca avanzata.
D: In che modo l'elevato punto di fusione di ~1400-1500℃ è vantaggioso per le applicazioni di sputtering?
R: Un punto di fusione elevato garantisce un'eccellente stabilità termica durante lo sputtering, consentendo al target di gestire operazioni ad alta potenza senza compromettere le prestazioni.
