ST0156 Bersaglio di ossido di ferro (Fe2O3) per sputtering

Descrizione del target di sputtering all'ossido di ferro (Fe2O3)

Il nostro target di sputtering all'ossido di ferro (Fe2O3) è un materiale ad alte prestazioni progettato per i processi di sputtering avanzati. Prodotto sotto rigorosi controlli di qualità, questo target garantisce un'eccellente purezza e durata per le applicazioni critiche. Progettato per la deposizione di film di precisione, offre prestazioni costanti e rivestimenti uniformi. I dischi personalizzabili o le forme appositamente studiate lo rendono adattabile a un'ampia gamma di requisiti industriali, dalla produzione di dispositivi a semiconduttore alla tecnologia dei display.

Applicazioni dei target sputtering all'ossido di ferro (Fe2O3)

- Dispositivi a semiconduttore: Ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di transistor e sensori.
- Tecnologie dei display: Utilizzato nei processi di rivestimento di LCD, pannelli OLED e altri componenti per display.
- Rivestimenti di superficie: Consente di creare strati funzionali e resistenti all'usura su vari substrati.
- Celle solari: Contribuisce alla deposizione di film di ossido per migliorare l'efficienza fotovoltaica.

Imballaggio del target di sputtering all'ossido di ferro (Fe2O3)

I nostri target sputtering all'ossido di ferro sono confezionati in contenitori sigillati e resistenti all'umidità per preservare l'integrità del prodotto durante la spedizione e lo stoccaggio. Le opzioni di imballaggio standard possono essere personalizzate in base alle dimensioni dell'ordine e ai requisiti dell'applicazione.

Domande frequenti

D: Quali metodi di sputtering sono consigliati per questo target?
R: Il target in ossido di ferro funziona in modo ottimale con le tecniche di sputtering RF e RF-R, garantendo una deposizione uniforme e di alta qualità del film.

D: Posso personalizzare la forma o le dimensioni di questo target di sputtering?
R: Sì, il target è disponibile in dischi o forme personalizzate. Contattate il nostro supporto tecnico per discutere le vostre esigenze specifiche.

D: Quali sono le applicazioni che traggono maggiore vantaggio dall'uso di target di sputtering all'ossido di ferro?
R: Questi target sono ideali per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, per i processi di rivestimento dei display, per le applicazioni di rivestimento superficiale e per la produzione di celle solari.

D: In che modo il livello di purezza del target influisce sulle sue prestazioni?
R: Con una purezza ≥99%, il target garantisce impurità minime, che portano a una qualità costante del film, a prestazioni migliori e a una maggiore affidabilità in varie applicazioni.

D: Quali misure vengono adottate per garantire la qualità dell'obiettivo durante l'imballaggio e il trasporto?
R: I nostri prodotti sono sigillati sottovuoto e confezionati in contenitori resistenti all'umidità per garantire che l'obiettivo mantenga la sua integrità e le sue prestazioni dalla fabbrica all'utente finale.