ST0155 Target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO)

Descrizione del target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO)

Il target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO) è stato progettato per fornire prestazioni eccezionali in una varietà di processi di deposizione. Prodotto con una composizione ad alta purezza di In2O3/ZnO, questo target offre risultati coerenti e affidabili nei sistemi di sputtering RF e DC per applicazioni a film sottile. La sua disponibilità in forme personalizzate, tra cui dischi o forme appositamente progettate, soddisfa le esigenze specifiche dei settori dell'optoelettronica, della tecnologia dei display e dei semiconduttori.

Applicazioni dei target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO)

- Deposizione di film sottili: Ideale per creare rivestimenti conduttivi trasparenti di alta qualità utilizzati nei display e nei touch screen.
- Optoelettronica: Essenziale per la produzione di pannelli LED, schermi piatti e dispositivi intelligenti.
- Dispositivi a semiconduttore: Offre prestazioni superiori nella produzione di componenti elettronici ad alta efficienza energetica.
- Fotovoltaico: migliora l'efficienza e la durata delle celle solari grazie all'applicazione precisa di film sottili.
- Rivestimenti funzionali: Offrono eccellenti proprietà elettriche e ottiche per la produzione di dispositivi di precisione.

Imballaggio del target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO)

Il nostro target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO) è confezionato in modo sicuro per preservarne l'elevata purezza e le prestazioni. Viene consegnato in confezioni a prova di umidità e a controllo statico per garantire condizioni ottimali durante lo stoccaggio e il trasporto. Per esigenze particolari, sono disponibili anche confezioni personalizzate.

Domande frequenti

D: Qual è l'applicazione tipica del target di sputtering all'ossido di indio e zinco (IZO)?
R: È comunemente utilizzato per la deposizione di film sottili in dispositivi optoelettronici, componenti semiconduttori e tecnologie di visualizzazione.

D: Il target di sputtering può essere personalizzato?
R: Sì, il target può essere prodotto in forme e dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di applicazioni specifiche.

D: Quali metodi di sputtering sono compatibili con questo target?
R: Il target è stato progettato per processi di sputtering sia RF che DC, garantendo una compatibilità versatile con vari sistemi di deposizione.

D: Qual è la composizione del target di sputtering?
R: Il target è composto da una miscela ad alta purezza di In2O3 e ZnO, che garantisce prestazioni eccezionali con una purezza ≥99%.

D: Come viene confezionato il target per mantenerne la qualità?
R: È confezionato in contenitori a prova di umidità e a controllo statico, con possibilità di ulteriore personalizzazione per preservare la qualità durante lo stoccaggio e il trasporto.