ST0152 Bersaglio di sputtering in ossido di ferro e indio (InFe2O4)

Descrizione del target di sputtering in ossido di ferro e indio (InFe2O4)

Il target di sputtering all'ossido di ferro e indio (InFe2O4) è progettato per la deposizione di precisione in applicazioni di materiali avanzati. Realizzato con una composizione InFe₂O₄ di elevata purezza, questo target offre prestazioni costanti per i processi di sputtering RF e DC. La qualità affidabile e il formato personalizzabile ne fanno la scelta ideale per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici e laboratori di ricerca. L'esclusivo legame tra indio ed elastomero migliora l'adesione e la stabilità termica, garantendo prestazioni ottimali durante le operazioni di sputtering.

Applicazioni dei target di sputtering all'ossido di ferro e indio (InFe2O4)

- Deposizione di film sottili: Perfetto per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore e per le applicazioni di rivestimento ottico.
- Dispositivi elettronici: Utilizzati nella produzione di sensori, display e altri dispositivi elettronici avanzati.
- Laboratori di ricerca: Ideale per le configurazioni sperimentali nel campo della scienza dei materiali e delle nanotecnologie.
- Processi di rivestimento: Utilizzati per depositare film uniformi su vari substrati per resistere all'usura e alla corrosione.

Imballaggio del target di sputtering all'ossido di ferro e indio (InFe2O4)

I nostri target sputtering all'ossido di ferro e indio sono confezionati con cura per preservarne l'elevata purezza e l'integrità strutturale. L'imballaggio standard comprende contenitori sigillati sotto vuoto per i dischi e sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Quali metodi di sputtering possono essere utilizzati con questo target?
R: Questo target di sputtering è compatibile con i processi di sputtering RF e DC.

D: Qual è il livello di purezza della composizione dell'ossido di ferro e indio?
R: Il prodotto ha un livello di purezza ≥99%.

D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, il target è disponibile come disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici.

D: Per quali tipi di applicazioni è adatto questo target?
R: È ideale per la deposizione di film sottili nella fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti ottici, dispositivi elettronici e ricerca sui materiali.

D: In che modo il legame unico (indio, elastomero) è vantaggioso per il processo di sputtering?
R: Il legame tra indio ed elastomero assicura un'eccellente adesione e stabilità termica, contribuendo a prestazioni di sputtering costanti e a una deposizione di film di alta qualità.