ST0137 Bersaglio di sputtering in ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12)

Descrizione del target di sputtering in ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12)

Il target di sputtering in ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12) è stato progettato per la deposizione di film sottili ad alte prestazioni, in particolare in applicazioni che richiedono proprietà magnetiche e ottiche uniche. Sviluppato con tecniche di fabbricazione avanzate, questo target sputtering garantisce un'uniformità e una coerenza eccezionali per una crescita affidabile del film. La sua elevata purezza, ≥99%, lo rende una scelta ideale per dispositivi magneto-ottici, componenti a microonde e varie applicazioni di semiconduttori. Stanford Advanced Materials continua a spingersi oltre i confini della scienza dei materiali con prodotti innovativi che soddisfano le rigorose esigenze delle moderne industrie high-tech.

Applicazioni dei target sputtering in ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12)

- Deposizione di film sottili: Utilizzato nei dispositivi magneto-ottici e nei circuiti integrati per la formazione di film precisi.
- Dispositivi a microonde: Migliora le prestazioni dei componenti a microonde e dei sistemi di comunicazione.
- Produzione di semiconduttori: Fornisce film di alta qualità per applicazioni avanzate di semiconduttori.
- Tecnologia dei sensori: Utilizzata per sviluppare sensori magnetici sensibili per applicazioni industriali e di ricerca.

Imballaggio del target di sputtering in ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12)

Il nostro target sputtering di ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12) è confezionato con cura per preservarne l'integrità e la purezza.
- Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.
- L'imballaggio standard garantisce un trasporto e uno stoccaggio sicuri, mantenendo le prestazioni ottimali del prodotto.

Domande frequenti

D: Quali sono le principali aree di applicazione del target di sputtering all'ossido di ferro e bismuto?
R: Viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili in dispositivi magneto-ottici, componenti a microonde, produzione di semiconduttori e tecnologia dei sensori.

D: Come viene garantita la purezza del target di sputtering?
R: Con una purezza del ≥99%, il nostro target sputtering è prodotto in base a rigorosi protocolli di controllo della qualità per garantire prestazioni elevate e costanti.

D: Il target può essere personalizzato in termini di forma e dimensioni?
R: Sì, il prodotto è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti applicativi specifici.

D: Cosa rende l'ossido di ferro e bismuto (Bi3Fe5O12) interessante per le applicazioni tecnologiche avanzate?
R: Le sue proprietà magnetiche e ottiche uniche, unite all'elevata purezza e uniformità, lo rendono ideale per la fabbricazione di film sottili e dispositivi ad alte prestazioni.

D: Come deve essere conservato e maneggiato il target di sputtering?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto, con un'esposizione minima ai contaminanti, per mantenere le sue condizioni immacolate e garantire prestazioni affidabili.