Descrizione del target di sputtering in ossido di stagno drogato con antimonio (ATO)
Il target di sputtering in ossido di stagno drogato con antimonio (ATO) è un materiale all'avanguardia progettato per processi di deposizione di film sottili ad alte prestazioni. Realizzato con un'esclusiva composizione Sb2O3-SnO2 e una purezza di almeno il 99%, questo target è progettato per fornire un'affidabilità e un'uniformità eccezionali durante lo sputtering. Le eccellenti proprietà del materiale garantiscono una deposizione stabile in applicazioni ad alta richiesta, assicurando un controllo preciso del film e un'uniformità su una vasta gamma di substrati.
Applicazioni del target di sputtering in ossido di stagno drogato con antimonio (ATO)
- Deposizione di film sottili: Ideale per depositare strati uniformi in display, pannelli solari e altri dispositivi elettronici.
- Produzione elettronica: Utilizzato nella fabbricazione di rivestimenti conduttivi ed elettrodi trasparenti.
- Rivestimenti di superficie: Applicati in processi di rivestimento avanzati per migliorare le proprietà termiche e ottiche.
- Ricerca e sviluppo: Consente l'allestimento di esperimenti nel campo della scienza dei materiali e della nanofabbricazione.
Confezionamento di target sputtering in ossido di stagno drogato con antimonio (ATO)
I nostri target sputtering all'ossido di stagno drogato con antimonio sono confezionati con cura per mantenerne l'integrità e le prestazioni. Ogni target è sigillato sottovuoto e trattato secondo rigorosi processi di controllo della qualità, per garantire condizioni ottimali al momento della consegna. Le opzioni di imballaggio sono personalizzabili per soddisfare le specifiche esigenze logistiche e di stoccaggio.
Domande frequenti
D: Qual è l'uso principale del target di sputtering ATO?
R: Il target di sputtering ATO è utilizzato principalmente per depositare film sottili in elettronica, come strati conduttivi trasparenti per display e celle solari.
D: Come viene prodotto il target di sputtering in ossido di stagno drogato con antimonio?
R: Viene fabbricato utilizzando tecniche di lavorazione di precisione delle polveri e metodi di sinterizzazione per ottenere un materiale omogeneo e di elevata purezza, ideale per le applicazioni di sputtering.
D: Quali sono le proprietà principali del target di sputtering ATO?
R: Le proprietà chiave includono un'elevata purezza (≥99%), una densità controllata (6,8 g/cm³) e una composizione ottimizzata per la deposizione coerente di film sottili.
D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, i target sono disponibili in dischi standard o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti di progettazione specifici.
D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo dei target di sputtering ATO?
R: Industrie come la produzione elettronica, la fotonica e la ricerca sui materiali avanzati traggono vantaggio dalle sue eccellenti prestazioni nei processi di deposizione di film sottili.
