(Fuori produzione) ST0120 Bersaglio di sputtering al vanadio e titanio (V/Ti)

Descrizione del target di sputtering al vanadio e titanio (V/Ti)

Il target di sputtering al vanadio e titanio (V/Ti) è realizzato per soddisfare le rigorose esigenze dei moderni sistemi di sputtering. Realizzato in V/Ti di alta qualità con una purezza del ≥99%, il target è disponibile in dischi o può essere personalizzato per soddisfare requisiti specifici. Progettato per garantire efficienza e durata, assicura prestazioni costanti durante i processi di deposizione di film sottili in varie applicazioni industriali.

Applicazioni dei target di sputtering al vanadio e titanio (V/Ti)

- Fabbricazione di dispositivi a semiconduttore: Offre un'elevata affidabilità per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori.
- Rivestimenti superficiali: Ideale per creare rivestimenti uniformi e aderenti su vari substrati.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato in ambienti sperimentali e di produzione per sviluppare nuove tecniche di sputtering.
- Processi industriali personalizzati: Adattabile a dimensioni e forme personalizzate per applicazioni di sputtering specializzate.

Imballaggio del bersaglio di sputtering in vanadio e titanio (V/Ti)

I nostri target di sputtering al vanadio e titanio (V/Ti) sono imballati meticolosamente per garantire l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio standard, con la possibilità di personalizzazione per soddisfare specifici requisiti logistici e applicativi.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione del target di sputtering?
R: Il target è composto da una lega di vanadio e titanio (V/Ti) con una purezza ≥99%.

D: Quali forme sono disponibili per questo target di sputtering?
R: È disponibile come disco o può essere personalizzato in base a requisiti specifici.

D: Sono disponibili dimensioni personalizzate per il target di sputtering?
R: Sì, le dimensioni disponibili sono personalizzabili per soddisfare le esigenze delle singole applicazioni.

D: Come viene confezionato il prodotto per garantirne la qualità?
R: Il target di sputtering è imballato in modo sicuro per mantenere la sua integrità durante lo stoccaggio e il trasporto, con opzioni di imballaggio standard disponibili e personalizzabili su richiesta.

D: Per quali applicazioni industriali è adatto il target sputtering Vanadium Titanium (V/Ti)?
R: È ideale per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, la deposizione di film sottili, i rivestimenti superficiali e vari processi di sputtering specializzati nella ricerca e nelle applicazioni industriali.