ST0118 Bersaglio di sputtering vanadio-alluminio (V/Al)

Descrizione del target di sputtering vanadio-alluminio (V/Al)

Il target di sputtering Vanadium Aluminum (V/Al) è stato progettato per processi avanzati di deposizione di film sottili, offrendo uniformità e prestazioni eccezionali. Prodotto con elevata purezza (≥99%), questo target è ideale per applicazioni di semiconduttori, display e microelettronica in cui precisione e durata sono fondamentali. Utilizzando tecniche di produzione all'avanguardia, il nostro target garantisce una contaminazione minima e un'eccellente qualità del film anche in condizioni industriali rigorose.

Applicazioni del target sputtering Vanadio-Alluminio (V/Al)

- Deposizione di film sottili: Assicura un rivestimento uniforme e preciso per la fabbricazione di circuiti integrati.

- Produzione di semiconduttori: Fornisce strati affidabili e a bassa resistenza per componenti ad alte prestazioni.

- Rivestimenti ottici: Migliorano la riflettività e la durata nelle applicazioni ottiche avanzate.

- Produzione di celle solari: Migliora l'efficienza grazie all'applicazione di film di alta qualità.

- Applicazioni personalizzate: Soddisfa i requisiti specifici per processi industriali unici.

Imballaggio del target di sputtering Vanadio-Alluminio (V/Al)

Il nostro target di sputtering in alluminio vanadio (V/Al) è confezionato con cura per mantenerne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni includono l'imballaggio sottovuoto con configurazioni di peso flessibili per soddisfare ordini personalizzati.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione del target di sputtering?
R: Il target di sputtering è composto da una lega di vanadio-alluminio (V/Al) con una purezza ≥99%.

D: Il target può essere personalizzato?
R: Sì, le forme possono essere personalizzate in base alle vostre esigenze specifiche, compresi i dischi standard o altre forme personalizzate.

D: Che tipo di legame viene utilizzato per il target di sputtering?
R: Il target utilizza legami di indio ed elastomero per garantire la stabilità durante i processi di sputtering.

D: In quali applicazioni può essere utilizzato il target di sputtering alluminio vanadio?
R: È ampiamente utilizzato nella deposizione di film sottili, nella produzione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici e in altri processi industriali specializzati.

D: In che modo l'elevata purezza del target ne favorisce le prestazioni?
R: L'elevata purezza (≥99%) garantisce un'eccellente qualità del film con una contaminazione minima, assicurando prestazioni affidabili e costanti in applicazioni avanzate.