(Fuori produzione) ST0113 Bersaglio di sputtering titanio-alluminio (Ti/Al)

Descrizione del target di sputtering titanio-alluminio (Ti/Al)

Il target di sputtering in titanio-alluminio (Ti/Al) è progettato con materiali di elevata purezza (≥99%) per offrire prestazioni eccezionali nella deposizione di film sottili. Le sue forme personalizzabili, disponibili come dischi o configurazioni su misura, lo rendono ideale per un'ampia gamma di applicazioni di sputtering. Sviluppato con tecniche di incollaggio avanzate che utilizzano l'indio e l'elastomero, questo target assicura una solida adesione e un efficace trasferimento di energia durante il processo di sputtering.

Applicazioni dei target di sputtering in titanio-alluminio (Ti/Al)

- Produzione di semiconduttori: Essenziale per il deposito di film sottili utilizzati nei circuiti elettronici e nei dispositivi integrati.
- Display a schermo piatto: Fornisce prestazioni affidabili per la produzione di componenti per display.
- Rivestimenti ottici: Utilizzati nella produzione di rivestimenti di precisione per lenti e specchi.
- Celle solari: Migliora l'efficienza dei dispositivi fotovoltaici grazie alla deposizione di film di alta qualità.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali che richiedono forme e formulazioni personalizzate.

Imballaggio dei target di sputtering in titanio-alluminio (Ti/Al)

I nostri target sputtering in titanio-alluminio (Ti/Al) sono confezionati con cura per mantenerne l'integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. I prodotti sono disponibili in soluzioni di imballaggio personalizzate, comprese opzioni sigillate sottovuoto, per garantire che il target arrivi in condizioni immacolate e sia pronto per l'uso immediato nei vostri sistemi di sputtering.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering titanio-alluminio (Ti/Al)?
R: È utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, display a schermo piatto, rivestimenti ottici e celle solari.

D: Come posso ottenere un target sputtering personalizzato?
R: È possibile ottenere forme e dimensioni personalizzate contattando il nostro team di assistenza con i vostri requisiti specifici.

D: Cosa indica il grado di purezza ≥99% per questo prodotto?
R: Il grado di purezza garantisce che il materiale del target soddisfa elevati standard di composizione chimica, fondamentali per ottenere prestazioni di sputtering costanti.

D: Questo target può essere utilizzato con diversi sistemi di sputtering?
R: Sì, anche se non vengono forniti parametri di sputtering specifici, questo target è progettato per funzionare con diverse tecniche di sputtering; consultare le specifiche del sistema per verificarne la compatibilità.