(Fuori produzione) ST0102 Bersaglio di sputtering al nichel-cromo (Ni/Cr)

Descrizione del target di sputtering al nichel-cromo (Ni/Cr)

Il target di sputtering al nichel-cromo (Ni/Cr) è progettato per garantire coerenza e prestazioni nelle applicazioni di sputtering avanzate. Prodotto con tecniche di precisione per ottenere un'elevata purezza (≥99%) e una composizione uniforme, questo target è progettato per offrire una qualità di deposizione superiore. Offrendo forme personalizzabili, tra cui dischi standard e forme su misura, soddisfa le esigenze specifiche dei clienti e garantisce prestazioni affidabili in condizioni operative diverse.

Applicazioni dei target di sputtering al nichel-cromo (Ni/Cr)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la microelettronica e la produzione di semiconduttori.
- Rivestimenti superficiali: Fornisce resistenza all'usura e alla corrosione per applicazioni ingegneristiche avanzate.
- Ricerca avanzata: Utilizzato nella R&S per la scienza dei materiali e le nuove tecnologie di rivestimento.
- Lavorazione industriale: Serve varie applicazioni industriali che richiedono target sputtering di elevata purezza e costanza.

Imballaggio dei target di sputtering al nichel-cromo (Ni/Cr)

I nostri target sputtering al nichel-cromo sono imballati in modo sicuro per mantenere l'integrità del prodotto durante il trasporto. Sono disponibili soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, garantendo una protezione ottimale e una facilità di manipolazione durante lo stoccaggio e la spedizione.

Domande frequenti

D: Quali settori industriali utilizzano comunemente i target sputtering al nichel-cromo?
R: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella deposizione di film sottili e nelle industrie di rivestimento superficiale.

D: Come funziona il processo di sputtering Ni/Cr?
R: Il bersaglio viene bombardato con ioni in un ambiente sotto vuoto, provocando l'espulsione di materiale e il suo deposito su substrati per formare film sottili.

D: È possibile personalizzare la forma del target di sputtering?
R: Sì, oltre ai dischi standard, è possibile produrre forme personalizzate in base alle esigenze specifiche del cliente.

D: Quali misure vengono adottate per garantire l'uniformità e la purezza del target?
R: Vengono impiegati materiali di elevata purezza (≥99%) e rigorosi controlli di produzione per mantenere una composizione costante e prestazioni superiori.

D: Come devono essere conservati i target per mantenere la loro qualità?
R: Devono essere conservati in un ambiente pulito e asciutto, con un imballaggio protettivo per evitare contaminazioni e danni fisici.