ST0098 Target di sputtering al cromo-molibdeno (Mo/Cr)

Descrizione del target di sputtering al cromo-molibdeno (Mo/Cr)

Il target di sputtering al molibdeno e cromo (Mo/Cr) è prodotto con una miscela ad alta purezza di molibdeno e cromo, con una composizione di Mo/Cr e una purezza del ≥99%. Progettato per applicazioni di sputtering nella produzione di semiconduttori e nella deposizione di film sottili, è disponibile in forma di disco o può essere realizzato su misura per soddisfare specifiche precise. Le sue prestazioni robuste garantiscono una qualità costante del film e una produzione affidabile anche in condizioni operative difficili.

Applicazioni dei target di sputtering al molibdeno-cromo (Mo/Cr)

- Industria dei semiconduttori: Utilizzato nei processi di deposizione sputtering per la formazione di strati di interconnessione e film conduttivi.
- Produzione di display: Impiegato nella creazione di strati conduttivi di alta qualità per le moderne tecnologie di visualizzazione.
- Rivestimenti a film sottile: Ideale per produrre rivestimenti durevoli e ad alte prestazioni in applicazioni ottiche, elettroniche e industriali.
- Applicazioni industriali: Adatto per processi di sputtering specializzati nei settori aerospaziale, automobilistico e in altri settori ad alta tecnologia.

Imballaggio dei target di sputtering al molibdeno-cromo (Mo/Cr)

I target sono confezionati in modo sicuro in imballaggi protettivi progettati su misura per preservare l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni includono imballaggi sigillati sotto vuoto per i dischi standard e soluzioni personalizzate per gli ordini su misura.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali dei target di sputtering Mo/Cr?
R: Sono utilizzati principalmente nella produzione di semiconduttori, nella deposizione di film sottili e nella produzione di strati conduttivi nell'elettronica moderna e nei display.

D: Quali forme e dimensioni sono disponibili per i target di sputtering?
R: I target sono disponibili in forma di disco e possono essere forniti in dimensioni personalizzate in base alle specifiche del cliente.

D: Perché scegliere un target di sputtering Mo/Cr rispetto ad altri materiali?
R: La composizione Mo/Cr offre un'elevata purezza e prestazioni costanti, essenziali per una deposizione affidabile di film sottili e per applicazioni industriali avanzate.

D: Come viene mantenuta l'elevata purezza (≥99%) durante la produzione?
R: Durante l'intero processo di produzione vengono attuate misure rigorose di controllo della qualità e tecnologie di produzione avanzate per garantire che l'obiettivo raggiunga e mantenga un'elevata purezza.

D: L'imballaggio può essere personalizzato per esigenze specifiche di spedizione o stoccaggio?
R: Sì, le soluzioni di confezionamento possono essere personalizzate per garantire la protezione del prodotto in base alle specifiche esigenze di stoccaggio, spedizione o applicazione.