(Fuori produzione) ST0087 Bersaglio di sputtering rame-germanio (Cu/Ge)

Descrizione del target di sputtering rame-germanio (Cu/Ge)

Il target di sputtering rame-germanio (Cu/Ge) è progettato per applicazioni avanzate di sputtering in cui sono essenziali un'elevata purezza e una deposizione precisa. Realizzato con una composizione di Cu/Ge e una purezza del ≥99%, questo prodotto è disponibile sia in forme di disco standard che in opzioni personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche del settore. È stato progettato per fornire prestazioni stabili e uniformi durante il processo di sputtering, rendendolo ideale per la microelettronica, i semiconduttori e le applicazioni di rivestimento superficiale. Il suo sviluppo è supportato dall'esperienza di Stanford Advanced Materials, che garantisce qualità e coerenza in ogni lotto.

Applicazioni dei target di sputtering rame-germanio (Cu/Ge)

- Produzione di semiconduttori: Utilizzato per la deposizione di film sottili in dispositivi microelettronici e circuiti integrati.
- Rivestimenti di superficie: Ideale per l'applicazione di rivestimenti metallici conduttivi e decorativi in una varietà di strumenti e componenti industriali.
- Tecnologie dei display: Supporta la formazione di strati precisi nei display a schermo piatto e nei dispositivi ottici avanzati.
- Pannelli solari: Impiegato nella deposizione di film semiconduttori per celle fotovoltaiche ad alta efficienza.

Imballaggio dei target di sputtering rame-germanio (Cu/Ge)

I nostri target sputtering al rame-germanio (Cu/Ge) sono imballati con cura per garantire che mantengano le loro caratteristiche di alta qualità durante lo stoccaggio e il trasporto. I prodotti sono saldamente sigillati sottovuoto ed etichettati secondo gli standard del settore, con opzioni di imballaggio su misura per le vostre specifiche esigenze di spedizione.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nei processi di deposizione sputtering per creare film sottili e rivestimenti su vari substrati dislocando gli atomi attraverso il bombardamento ionico.

D: Come faccio a scegliere il target sputtering giusto per la mia applicazione?
R: Considerate fattori quali la composizione, la purezza, il materiale del substrato e le proprietà del film desiderato. Il nostro team di assistenza tecnica può aiutarvi a selezionare l'opzione migliore per le vostre esigenze specifiche.

D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, i nostri target di sputtering in rame e germanio (Cu/Ge) sono disponibili in forme standard a disco e in formati personalizzati per soddisfare requisiti applicativi unici.

D: Come devo conservare i target sputtering per mantenere le loro prestazioni?
R: Si raccomanda di conservare i target sputtering in un ambiente pulito e asciutto e in una confezione sigillata sotto vuoto, quando possibile, per evitare la contaminazione e l'ossidazione.

D: Quali sono i settori industriali che traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo di target sputtering in rame-germanio (Cu/Ge)?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, la microelettronica, i rivestimenti superficiali, la tecnologia dei display e la produzione di pannelli solari traggono vantaggio dall'elevata precisione e affidabilità offerta dai nostri target sputtering.