ST0085 Bersaglio per sputtering rame cobalto (Cu/Co)

Descrizione del target di sputtering rame cobalto (Cu/Co)

Il target di sputtering rame-cobalto (Cu/Co) è progettato per un'efficiente deposizione sputtering in una varietà di applicazioni industriali ad alta tecnologia. Prodotto per soddisfare una purezza minima del ≥99%, questo target offre prestazioni costanti e durata nel rivestimento di film sottili e nella lavorazione dei semiconduttori. La sua composizione unica garantisce un'eccellente conduttività e adesione, rendendolo una scelta affidabile per ambienti di ricerca e produzione avanzati. L'opzione di forme personalizzate consente inoltre di trovare soluzioni su misura per rispondere a sfide produttive specifiche.

Applicazioni dei target di sputtering rame-cobalto (Cu/Co)

- Produzione di semiconduttori: Ideale per depositare film sottili conduttivi di alta qualità nella produzione di microelettronica.
- Rivestimenti elettronici: Migliora le prestazioni nella produzione di strati conduttivi per vari dispositivi.
- Ricerca e sviluppo: Adatta ai processi di deposizione sperimentale nella ricerca avanzata sulla scienza dei materiali.
- Rivestimenti ottici e riflettenti: Utilizzati per produrre strati riflettenti con un'adesione e una durata migliori.
- Applicazioni industriali personalizzate: Adattabile a processi di rivestimento specializzati nelle tecnologie emergenti.

Impacchettamento del target di sputtering rame-cobalto (Cu/Co)

Il target di sputtering rame-cobalto è imballato in modo sicuro per preservarne l'integrità durante il trasporto e lo stoccaggio. Ogni unità è accuratamente sigillata in un imballaggio protettivo; su richiesta sono disponibili soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti logistici specifici.

Domande frequenti

D: Quali sistemi di sputtering sono compatibili con il target di sputtering rame cobalto?
R: Il target di sputtering rame-cobalto è stato progettato per essere versatile e può essere adattato all'uso in vari sistemi di sputtering, compresi i processi di sputtering DC e RF.

D: Quali sono i principali vantaggi dell'utilizzo di un target di sputtering in rame cobalto?
R: Questo target offre un'eccellente conduttività e adesione, garantendo una deposizione di film sottile di alta qualità e prestazioni migliori nelle applicazioni elettroniche avanzate.

D: Le forme dei target di sputtering sono personalizzabili?
R: Sì, il target è disponibile in forme di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di progettazione specifici.

D: Qual è il livello di purezza del target di sputtering rame-cobalto?
R: Il prodotto è fabbricato per raggiungere un livello di purezza minimo del ≥99%, garantendo prestazioni superiori durante i processi di sputtering.

D: Come posso ottenere specifiche più dettagliate o effettuare un ordine?
R: Contattate il nostro team di vendita per ottenere specifiche complete e per discutere i requisiti di dimensioni personalizzate in base alle vostre esigenze applicative.